| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-21页 |
| ·铁电薄膜材料 | 第9-12页 |
| ·铁电薄膜的制备方法 | 第12-16页 |
| ·脉冲激光沉积（PLD）法 | 第12-13页 |
| ·化学溶液（CSD）法 | 第13页 |
| ·溅射（Sputtering）法 | 第13-14页 |
| ·化学气相沉积（CVD）法 | 第14-16页 |
| ·PBZR_XTI_（1-X）O_3（PZT）薄膜的研究现状 | 第16-17页 |
| ·铁电薄膜异质结构 | 第17-20页 |
| ·异质结构工艺 | 第18页 |
| ·界面研究 | 第18-19页 |
| ·全钙钛矿异质结构 | 第19-20页 |
| ·本研究工作的提出、研究内容及意义 | 第20-21页 |
| 第二章 实验研究方法 | 第21-29页 |
| ·溶胶-凝胶技术 | 第21-22页 |
| ·退火工艺对钙钛矿结构铁电薄膜的影响 | 第22-23页 |
| ·结构和形貌表征技术 | 第23-25页 |
| ·X-射线衍射（XRD） | 第24页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第24-25页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第25页 |
| ·电学性质测试技术 | 第25-28页 |
| ·光学性质测试技术 | 第28-29页 |
| 第三章 PBZR_（0.5）TI_（0.5）O_3/LANIO_3异质结构薄膜的制备 | 第29-52页 |
| ·LANIO_3导电薄膜的制备 | 第29-33页 |
| ·LANIO_3 概述 | 第29-30页 |
| ·LANIO_3 导电薄膜的制备及性能表征 | 第30-31页 |
| ·LANIO_3 导电薄膜的结构及物理特性 | 第31-33页 |
| ·PBZR_（0.5）TI_（0.5）O_3/LANIO_3 异质结构的制备 | 第33-39页 |
| ·概述 | 第33-34页 |
| ·PBZR_（0.5）TI_（0.5）O_3/LANIO_3 异质结构的制备及性能的表征 | 第34-35页 |
| ·PBZR_（0.5）TI_（0.5）O_3/LANIO_3 异质结构的微结构及电学性质研究 | 第35-39页 |
| ·退火温度对PBZR_（0.5）TI_（0.5）O_3/LANIO_3 异质结构性能的影响 | 第39-46页 |
| ·概述 | 第39页 |
| ·退火温度对PBZR_（0.5）TI_（0.5）O_3/LANIO_3 异质结构性能的影响 | 第39-46页 |
| ·BA_（0.9）SR_（0.1）TIO_3/LANIO_3 异质结构的制备 | 第46-52页 |
| ·概述 | 第46-47页 |
| ·BA_（0.9）SR_（0.1）TIO_3/LANIO_3 异质结构的制备及性能表征 | 第47-48页 |
| ·BA_（0.9）SR_（0.1）TIO_3/LANIO_3异质结构的微结构及电学性质研究 | 第48-52页 |
| 第四章 锆钛酸铅平板光波导的制备及光学性能研究 | 第52-63页 |
| ·概述 | 第52页 |
| ·平板光波导原理 | 第52-55页 |
| ·PBZR_XTI_（1-X）O_3 平板光波导设计思想 | 第55-56页 |
| ·PBZR_（0.5）TI_（0.5）O_3/PBZR0.4T10.603 的双层膜的制备及表征 | 第56-57页 |
| ·双层膜的微结构及铁电特性 | 第57-59页 |
| ·锆钛酸铅双层膜的光学特性 | 第59-63页 |
| 第五章 总结与展望 | 第63-64页 |
| ·总结 | 第63页 |
| ·展望 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-73页 |
| 攻读硕士学位期间已发表的论文 | 第73页 |
