| 摘要 | 第4-7页 |
| ABSTRACT | 第7-14页 |
| 第一章前言 | 第14-42页 |
| 1.1银配合物构筑的多酸基杂化化合物的研究 | 第15-27页 |
| 1.1.1银配合物修饰合成杂多钨酸化合物的研究 | 第15-23页 |
| 1.1.2银配合物修饰合成多钒酸化合物的研究 | 第23-25页 |
| 1.1.3银配合物修饰合成钨钒混配多酸化合物的研究 | 第25-27页 |
| 1.2“Y”型N-杂环有机配体修饰合成多酸化合物的研究 | 第27-30页 |
| 1.3链状吡啶二羧酸修饰合成多酸化合物的研究 | 第30-32页 |
| 1.4选题思路 | 第32-35页 |
| 参考文献 | 第35-42页 |
| 第二章银配合物修饰Keggin型硅钨/钒酸化合物的合成及性能研究 | 第42-82页 |
| 2.1实验部分 | 第43-47页 |
| 2.1.1仪器与试剂 | 第43-44页 |
| 2.1.2Ag-配合物修饰的{SiW11V}基化合物的合成 | 第44页 |
| 2.1.3Ag-配合物修饰的{SiW9V3}基化合物的合成 | 第44-46页 |
| 2.1.4晶体结构的测定 | 第46-47页 |
| 2.2Ag-配合物修饰的{SiW11V}基化合物的结构及性能研究 | 第47-57页 |
| 2.2.1化合物的晶体结构 | 第47-50页 |
| 2.2.2红外光谱 | 第50-51页 |
| 2.2.3X-射线粉末衍射 | 第51页 |
| 2.2.4固体紫外-可见吸收光谱及光学禁带宽度 | 第51-52页 |
| 2.2.5电化学性质 | 第52-55页 |
| 2.2.6化合物对有机染料的光催化降解性能 | 第55-57页 |
| 2.3Ag-配合物修饰的{SiW9V3}基化合物结构的表征及性能研究 | 第57-75页 |
| 2.3.1化合物的晶体结构 | 第57-62页 |
| 2.3.2红外光谱 | 第62-63页 |
| 2.3.3X-射线粉末衍射 | 第63-64页 |
| 2.3.4固体紫外-可见吸收光谱及光学禁带宽度 | 第64-65页 |
| 2.3.5电化学性质 | 第65-68页 |
| 2.3.6化合物对有机染料的降解与吸附性能 | 第68-70页 |
| 2.3.7化合物对醛的催化反应 | 第70-75页 |
| 本章小结 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-82页 |
| 第三章Y型-氮配体修饰Keggin型硅钨/钒酸化合物的合成及性能研究 | 第82-102页 |
| 3.1实验部分 | 第83-85页 |
| 3.1.1化合物6-9的合成 | 第83-84页 |
| 3.1.2晶体结构测定 | 第84-85页 |
| 3.2化合物的晶体结构及性能研究 | 第85-97页 |
| 3.2.1化合物的晶体结构 | 第85-88页 |
| 3.2.2红外光谱 | 第88-89页 |
| 3.2.3X-射线粉末衍射 | 第89-90页 |
| 3.2.4固体紫外-可见吸收光谱及光学禁带宽度 | 第90-91页 |
| 3.2.5电化学性质 | 第91-95页 |
| 3.2.6硫醚氧化反应 | 第95-97页 |
| 本章小结 | 第97-98页 |
| 参考文献 | 第98-102页 |
| 第四章吡啶羧酸配体修饰的Keggin型硅钨/钒酸基铜化合物的合成及性能研究 | 第102-120页 |
| 4.1实验部分 | 第103-104页 |
| 4.1.1化合物的合成 | 第103-104页 |
| 4.1.2晶体结构的测定 | 第104页 |
| 4.2化合物的晶体结构及性能研究 | 第104-115页 |
| 4.2.1化合物10-11的晶体结构 | 第104-108页 |
| 4.2.2红外光谱 | 第108-109页 |
| 4.2.3X-射线粉末衍射 | 第109页 |
| 4.2.4固体紫外-可见吸收光谱及光学禁带宽度 | 第109-110页 |
| 4.2.5磁性质 | 第110-111页 |
| 4.2.6电化学性质 | 第111-113页 |
| 4.2.7硫醚氧化反应 | 第113-115页 |
| 本章小结 | 第115-116页 |
| 参考文献 | 第116-120页 |
| 结论 | 第120-122页 |
| 附录 | 第122-136页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第136-138页 |
| 致谢 | 第138页 |
