硅/微晶玻璃阳极键合机理的研究
| 中文摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-26页 |
| ·项目背景及意义 | 第10-11页 |
| ·常用键合技术 | 第11-13页 |
| ·阳极键合技术简介 | 第13-19页 |
| ·阳极键合的发展历史 | 第13-14页 |
| ·阳极键合种类 | 第14-15页 |
| ·阳极键合装置 | 第15-16页 |
| ·阳极键合质量评估 | 第16-17页 |
| ·阳极键合的应用 | 第17-19页 |
| ·阳极键合材料 | 第19-22页 |
| ·阳极材料 | 第19-20页 |
| ·阴极材料 | 第20-21页 |
| ·阳极键合用LAS微晶玻璃 | 第21-22页 |
| ·阳极键合研究现状及趋势 | 第22-24页 |
| ·阳极键合工艺的研究 | 第22-23页 |
| ·阳极键合机理的研究 | 第23-24页 |
| ·阳极键合发展趋势 | 第24页 |
| ·本课题研究目标以及研究内容 | 第24-26页 |
| ·研究目标 | 第24-25页 |
| ·研究内容 | 第25-26页 |
| 第2章 实验与测试 | 第26-36页 |
| ·试验流程 | 第26页 |
| ·微晶玻璃的制备 | 第26-30页 |
| ·微晶玻璃组成设计 | 第26-28页 |
| ·基础玻璃的熔制 | 第28-29页 |
| ·基础玻璃的差热分析 | 第29页 |
| ·核化与晶化 | 第29-30页 |
| ·微晶玻璃的微观结构及性能测试 | 第30-32页 |
| ·X-射线衍射分析 | 第30页 |
| ·热膨胀性能测试 | 第30-31页 |
| ·扫描电镜分析 | 第31页 |
| ·抗折强度测试 | 第31-32页 |
| ·阳极键合实验 | 第32-34页 |
| ·键合基片的制备 | 第32-33页 |
| ·分组阳极键合实验 | 第33-34页 |
| ·键合性能以及表界面测试 | 第34-36页 |
| ·键合强度测试 | 第34页 |
| ·键合断面及截面分析 | 第34页 |
| ·中间层以及黑斑元素分析 | 第34-35页 |
| ·中间层以及带黑斑的微晶玻璃X-射线衍射分析 | 第35-36页 |
| 第3章 微晶玻璃中主晶相在键合中的作用 | 第36-54页 |
| ·微晶玻璃测试结果与分析 | 第36-40页 |
| ·DTA测试结果与分析 | 第36-38页 |
| ·XRD测试结果与分析 | 第38-39页 |
| ·微晶玻璃显微图像 | 第39-40页 |
| ·主晶相含量对微晶玻璃性能的影响 | 第40-45页 |
| ·主晶相含量对微晶玻璃热膨胀的影响 | 第40-42页 |
| ·主晶相含量对微晶玻璃导电率的影响 | 第42-44页 |
| ·主晶相含量对微晶玻璃力学性能的影响 | 第44-45页 |
| ·主晶相含量对键合的影响 | 第45-53页 |
| ·键合结果 | 第45-49页 |
| ·主晶相含量对键合工艺的影响 | 第49-50页 |
| ·主晶相含量对键合强度的影响 | 第50-51页 |
| ·晶体与键合的关系 | 第51-52页 |
| ·键合结合能的计算 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第4章 阳极键合表界面的研究 | 第54-66页 |
| ·键合片表界面以及键合黑斑的显微分析 | 第54-60页 |
| ·键合后样品表面显微测试 | 第54-56页 |
| ·键合中间层显微分析 | 第56-57页 |
| ·键合黑斑的显微分析 | 第57-60页 |
| ·键合中间层和斑的XRD测试结果 | 第60-61页 |
| ·键合中间层的XRD测试结果 | 第60-61页 |
| ·带黑斑的微晶玻璃XRD测试结果与分析 | 第61页 |
| ·黑斑以及中间层EDS测试结果 | 第61-65页 |
| ·微晶玻璃黑斑EDS测试结果 | 第61-63页 |
| ·微晶玻璃黑斑EDS测试结果 | 第63-65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 第5章 键合机理探讨 | 第66-69页 |
| ·键合过程离子的迁移 | 第66-67页 |
| ·键合机理模拟 | 第67-69页 |
| 第6章 结论 | 第69-70页 |
| 参考文献 | 第70-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第74页 |
