| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第9页 |
| 1.2 国内外研究现状及存在问题 | 第9-13页 |
| 1.2.1 国内外的研究现状 | 第9-12页 |
| 1.2.2 存在的问题 | 第12-13页 |
| 1.3 研究的目的与思路 | 第13-15页 |
| 1.4 论文结构安排 | 第15-17页 |
| 第2章 线性啁啾相位掩膜板的设计 | 第17-40页 |
| 2.1 线性啁啾相位掩模板设计的理论基础和设计指标 | 第17-22页 |
| 2.1.1 啁啾相位掩膜啁啾系数和长度与反射带宽之间的关系.. | 第17页 |
| 2.1.2 啁啾相位掩膜周期与反射带宽之间的关系 | 第17-18页 |
| 2.1.3 严格耦合波理论 | 第18-21页 |
| 2.1.4 啁啾相位掩膜的设计指标 | 第21-22页 |
| 2.2 线性啁啾相位掩膜板的设计思路 | 第22-35页 |
| 2.2.1 啁啾相位掩膜啁啾系数和长度的确定 | 第24-26页 |
| 2.2.2 啁啾相位掩膜周期分布的确定 | 第26-27页 |
| 2.2.3 相位掩膜板的衍射效率分析 | 第27-35页 |
| 2.2.3.1 衍射效率的影响因素 | 第27-35页 |
| 2.3 啁啾相位掩模板的制作方案 | 第35-39页 |
| 2.3.1 最终设计图 | 第35-36页 |
| 2.3.2 啁啾相位掩膜板的加工方案选择 | 第36-39页 |
| 2.4 本章小结 | 第39-40页 |
| 第3章 二次曝光制作宽带边沿谱啁啾光纤光栅 | 第40-56页 |
| 3.1 啁啾光栅制作的理论基础 | 第40页 |
| 3.2 边沿谱啁啾光栅所存在的问题以及解决问题的思路 | 第40-43页 |
| 3.2.1 CEO算法设计边沿谱啁啾光栅所存在的问题 | 第41页 |
| 3.2.2 提高边沿谱啁啾光纤光栅制作效率的思路 | 第41-43页 |
| 3.3 二次曝光法 | 第43-54页 |
| 3.3.1 准直和整形激光束 | 第43-44页 |
| 3.3.2 均匀化激光束 | 第44-49页 |
| 3.3.3 二次曝光法制作边沿谱啁啾光纤光栅 | 第49-54页 |
| 3.4 本章小结 | 第54-56页 |
| 第4章 总结与展望 | 第56-59页 |
| 4.1 总结 | 第56-57页 |
| 4.2 展望 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 致谢 | 第63页 |
