| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 注释表 | 第14-15页 |
| 缩略词 | 第15-16页 |
| 第一章 绪论 | 第16-31页 |
| 1.1 引言 | 第16-17页 |
| 1.2 硼化钼的基本物性 | 第17-22页 |
| 1.2.1 硼化钼的晶体结构 | 第17-18页 |
| 1.2.2 硼化钼的性质 | 第18-22页 |
| 1.3 硼化钼的制备方法 | 第22-24页 |
| 1.3.1 硼化钼传统的制备方法 | 第22-23页 |
| 1.3.2 二维材料的化学气相沉积法制备 | 第23-24页 |
| 1.4 硼化钼在电催化析氢方面的应用 | 第24-29页 |
| 1.4.1 电催化析氢催化剂研究背景 | 第24-25页 |
| 1.4.2 电催化析氢反应过程中的重要指标 | 第25-26页 |
| 1.4.3 硼化钼的电催化析氢性能研究进展 | 第26-27页 |
| 1.4.4 电催化析氢性能优化策略 | 第27-29页 |
| 1.5 本论文的研究内容及创新点 | 第29-31页 |
| 1.5.1 研究内容和方法 | 第29-30页 |
| 1.5.2 研究的可行性 | 第30页 |
| 1.5.3 本论文的主要创新点 | 第30-31页 |
| 第二章 硼化钼薄膜的化学气相沉积法制备 | 第31-49页 |
| 2.1 引言 | 第31-32页 |
| 2.2 化学气相沉积法制备硼化钼薄膜 | 第32-36页 |
| 2.2.1 钼箔的预处理 | 第32-33页 |
| 2.2.2 硼源的准备工作 | 第33-34页 |
| 2.2.3 硼化钼薄膜的CVD生长 | 第34-36页 |
| 2.3 硼化钼薄膜的转移 | 第36-39页 |
| 2.4 硼化钼薄膜的表征 | 第39-45页 |
| 2.4.1 形貌分析 | 第39-40页 |
| 2.4.2 结构表征 | 第40-43页 |
| 2.4.3 元素分析 | 第43-45页 |
| 2.4.4 厚度测定 | 第45页 |
| 2.5 理论计算 | 第45-48页 |
| 2.5.1 预测晶体结构模型验证 | 第45-46页 |
| 2.5.2 电子性能研究 | 第46-48页 |
| 2.6 小结 | 第48-49页 |
| 第三章 硼化钼薄膜的电催化析氢性能研究 | 第49-65页 |
| 3.1 引言 | 第49页 |
| 3.2 电催化析氢反应的基本原理和研究方法 | 第49-52页 |
| 3.2.1 基本原理 | 第49-50页 |
| 3.2.2 实验方法和过程 | 第50-52页 |
| 3.3 硼化钼薄膜的电催化析氢性能研究和分析 | 第52-64页 |
| 3.3.1 生长温度对硼化钼薄膜的电催化析氢性能影响 | 第52-59页 |
| 3.3.2 生长时间对硼化钼薄膜的电催化析氢性能影响 | 第59-61页 |
| 3.3.3 生长气氛对硼化钼薄膜的电催化析氢性能影响 | 第61-62页 |
| 3.3.4 硼源质量对硼化钼薄膜的电催化析氢性能影响 | 第62-64页 |
| 3.4 小结 | 第64-65页 |
| 第四章 氧化-硼化法制备硼化钼薄膜的电催化析氢性能研究 | 第65-77页 |
| 4.1 引言 | 第65页 |
| 4.2 氧化-硼化法制备硼化钼薄膜 | 第65-69页 |
| 4.2.1 MoO_2的制备 | 第65-67页 |
| 4.2.2 硼化钼薄膜的CVD生长和转移 | 第67-69页 |
| 4.3 硼化钼薄膜的表征 | 第69-72页 |
| 4.3.1 形貌分析 | 第69-70页 |
| 4.3.2 结构表征 | 第70-71页 |
| 4.3.3 元素分析 | 第71页 |
| 4.3.4 厚度测定 | 第71-72页 |
| 4.4 硼化钼薄膜的电催化析氢性能研究和分析 | 第72-76页 |
| 4.4.1 电催化析氢性能研究 | 第72-73页 |
| 4.4.2 电催化析氢性能分析 | 第73-76页 |
| 4.5 小结 | 第76-77页 |
| 第五章 总结和展望 | 第77-79页 |
| 5.1 全文总结 | 第77-78页 |
| 5.2 研究展望 | 第78-79页 |
| 参考文献 | 第79-86页 |
| 致谢 | 第86-87页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第87页 |
