晶体包层光纤偏振器的关键技术研究
摘要 | 第5-6页 |
abstract | 第6页 |
第1章 绪论 | 第9-14页 |
1.1 课题的研究目的与意义 | 第9页 |
1.2 光纤偏振器的分类及研究进展 | 第9-13页 |
1.2.1 抛磨型光纤偏振器 | 第10页 |
1.2.2 边孔型光纤偏振器 | 第10-11页 |
1.2.3 卷绕型光纤偏振器 | 第11-12页 |
1.2.4 锥型光纤偏振器 | 第12-13页 |
1.3 本课题的研究内容 | 第13-14页 |
第2章 包层晶体制备的加热装置设计 | 第14-28页 |
2.1 热传递 | 第14-16页 |
2.1.1 热传导与傅里叶定律 | 第14页 |
2.1.2 对流、对流换热以及牛顿冷却定律 | 第14-15页 |
2.1.3 热辐射 | 第15-16页 |
2.2 加热方式简介 | 第16-18页 |
2.2.1 电阻加热 | 第16-17页 |
2.2.2 蒸汽加热 | 第17页 |
2.2.3 导热油加热 | 第17页 |
2.2.4 感应加热 | 第17-18页 |
2.3 包层晶体加热装置的工作原理 | 第18-19页 |
2.4 包层晶体加热装置器件的选型 | 第19-24页 |
2.4.1 高温陶瓷加热片 | 第19-20页 |
2.4.2 晶闸管 | 第20-21页 |
2.4.3 温度显示控制仪表 | 第21-23页 |
2.4.4 热电偶 | 第23-24页 |
2.5 加热装置的控制方法 | 第24-26页 |
2.6 本章小结 | 第26-28页 |
第3章 加热装置的温度场仿真及性能测试 | 第28-40页 |
3.1 ANSYS软件简介 | 第28页 |
3.2 加热装置模型设计和仿真结果 | 第28-35页 |
3.2.1 第一次模型 | 第29-30页 |
3.2.2 第二次模型 | 第30-31页 |
3.2.3 结果分析 | 第31-35页 |
3.3 加热装置温控性能测试 | 第35-39页 |
3.3.1 加热装置保温性能测试 | 第35-36页 |
3.3.2 加热装置温度梯度测量 | 第36-38页 |
3.3.3 加热装置程序控制性能 | 第38-39页 |
3.4 本章小结 | 第39-40页 |
第4章 晶体的制备及性能 | 第40-54页 |
4.1 晶体生长工艺的分类 | 第40页 |
4.2 包层晶体定向生长的实现方法 | 第40-49页 |
4.2.1 微尺寸晶体生长工艺 | 第40-41页 |
4.2.2 晶体材料的选取 | 第41-42页 |
4.2.3 基底的选择 | 第42-44页 |
4.2.4 温场的测控 | 第44-46页 |
4.2.5 晶体生长步骤 | 第46-49页 |
4.3 晶体性能测量 | 第49-52页 |
4.3.1 缺陷类型的简介 | 第49页 |
4.3.2 晶体XRD分析 | 第49-51页 |
4.3.3 晶体刻蚀研究 | 第51-52页 |
4.4 本章小结 | 第52-54页 |
第5章 包层光纤偏振器的晶体生长及优化方法 | 第54-59页 |
5.1 拉锥光纤上生长NaNO_3晶体的实现 | 第54-55页 |
5.2 晶体包层光纤偏振器的优化方法 | 第55-58页 |
5.3 本章小结 | 第58-59页 |
结论 | 第59-60页 |
参考文献 | 第60-64页 |
攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果 | 第64-65页 |
致谢 | 第65页 |