| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第9-11页 |
| 1.1.1 课题来源 | 第9页 |
| 1.1.2 课题研究的背景和意义 | 第9-11页 |
| 1.2 国内外研究现状及分析 | 第11-17页 |
| 1.2.1 磁流变抛光机床的研究现状 | 第11-16页 |
| 1.2.2 磁流变液的研究现状 | 第16-17页 |
| 1.3 本文的主要研究内容 | 第17-18页 |
| 第2章 半球谐振子磁流变抛光机床的研制 | 第18-35页 |
| 2.1 引言 | 第18页 |
| 2.2 半球谐振子磁流变抛光工艺方案分析 | 第18-19页 |
| 2.3 半球谐振子磁流变抛光机床设计与搭建 | 第19-29页 |
| 2.3.1 磁流变抛光机床总体方案 | 第19-21页 |
| 2.3.2 磁流变抛光机床关键功能单元设计与搭建 | 第21-29页 |
| 2.4 磁流变液循环系统设计与搭建 | 第29-30页 |
| 2.5 磁流变抛光机床电气系统设计与搭建 | 第30-34页 |
| 2.5.1 电器电路设计 | 第30-33页 |
| 2.5.2 PLC控制系统设计 | 第33-34页 |
| 2.6 本章小节 | 第34-35页 |
| 第3章 半球谐振子磁流变抛光液材料去除性能研究 | 第35-48页 |
| 3.1 引言 | 第35页 |
| 3.2 磁流变抛光液性能要求与成分分析 | 第35-39页 |
| 3.2.1 磁流变抛光液性能要求分析 | 第35-36页 |
| 3.2.2 磁流变抛光液成分组成分析 | 第36-38页 |
| 3.2.3 磁流变抛光液成分配比分析 | 第38-39页 |
| 3.3 磁流变抛光液材料去除性能实验研究 | 第39-44页 |
| 3.3.1 实验与检测设备 | 第39-40页 |
| 3.3.2 磁流变抛光液材料去除性能单因素实验研究 | 第40-44页 |
| 3.4 磁流变抛光液成分配比实验研究 | 第44-46页 |
| 3.4.1 实验方案设计 | 第44-45页 |
| 3.4.2 实验结果检测与分析 | 第45-46页 |
| 3.5 本章小结 | 第46-48页 |
| 第4章 半球谐振子磁流变抛光工艺实验研究 | 第48-67页 |
| 4.1 引言 | 第48页 |
| 4.2 半球谐振子磁流变抛光去除模型分析 | 第48-53页 |
| 4.2.1 半球谐振子加工形式分析 | 第48-49页 |
| 4.2.2 半球谐振子磁流变抛光去除函数模型的建立 | 第49-53页 |
| 4.3 基于响应曲面法的磁流变抛光工艺参数优化 | 第53-64页 |
| 4.3.1 响应曲面法的理论基础分析 | 第53-54页 |
| 4.3.2 实验方案设计 | 第54-57页 |
| 4.3.3 材料去除率数学模型的建立与分析 | 第57-60页 |
| 4.3.4 响应曲面模型分析 | 第60-62页 |
| 4.3.5 基于粒子群算法的模型优化及实验验证 | 第62-64页 |
| 4.4 半球谐振子磁流变抛光实验研究 | 第64-66页 |
| 4.5 本章小结 | 第66-67页 |
| 结论 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-73页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果 | 第73-75页 |
| 致谢 | 第75页 |