| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 石墨烯结构、性质与应用 | 第11-15页 |
| 1.2.1 石墨烯结构 | 第11-12页 |
| 1.2.2 石墨烯性质与应用 | 第12-15页 |
| 1.3 石墨烯的制备方法 | 第15-17页 |
| 1.3.1 碳源的选择 | 第16页 |
| 1.3.2 催化剂的选择 | 第16页 |
| 1.3.3 压强对石墨烯生长的影响 | 第16页 |
| 1.3.4 温度对石墨烯生长的影响 | 第16-17页 |
| 1.4 本文的主要内容 | 第17-18页 |
| 第2章 理论基础 | 第18-27页 |
| 2.1 第一性原理 | 第18-20页 |
| 2.1.1 Born-Oppenheimer近似 | 第18-19页 |
| 2.1.2 Hartree-Fock单电子近似 | 第19-20页 |
| 2.2 密度泛函理论(Density Function Theory,DFT) | 第20-24页 |
| 2.2.1 Thomas-Fermi-Dirac模型 | 第20页 |
| 2.2.2 Hohenberg-Kohn定理 | 第20-21页 |
| 2.2.3 Kohn-Sham方程 | 第21-22页 |
| 2.2.4 交换相关泛函 | 第22-23页 |
| 2.2.5 赝势方法 | 第23页 |
| 2.2.6 范德华密度泛函方法(vdW-DFT) | 第23-24页 |
| 2.3 中间物种吸附能计算 | 第24页 |
| 2.4 NEB(Nudged Elastic Band)方法 | 第24-25页 |
| 2.5 微观动力学模型 | 第25-26页 |
| 2.6 VASP软件包简介 | 第26-27页 |
| 第3章 石墨烯生长初期CH_4在Fe-Cu(100)表面解离机理的理论研究 | 第27-40页 |
| 3.1 研究背景 | 第27-28页 |
| 3.2 计算方法 | 第28-29页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第29-38页 |
| 3.3.1 CH_x(x=0-4)在Fe-Cu(100)表面上的吸附 | 第29-31页 |
| 3.3.2 甲烷在Fe-Cu(100)上的解离 | 第31-34页 |
| 3.3.3 掺杂的Fe原子对Cu(100)表面的影响 | 第34-35页 |
| 3.3.4 碳原子在Fe-Cu(100)表面上的迁移和聚合 | 第35-36页 |
| 3.3.5 微观动力学模型 | 第36-38页 |
| 3.4 本章小结 | 第38-40页 |
| 第4章 石墨烯生长初期CH_4在Ni-Cu(100)表面解离机理的理论研究 | 第40-53页 |
| 4.1 研究背景 | 第40页 |
| 4.2 计算方法 | 第40-41页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第41-52页 |
| 4.3.1 CH_x(x=0-4)在Ni-Cu(100)表面上的吸附 | 第41-43页 |
| 4.3.2 CH_4在Ni-Cu(100)上的解离 | 第43-45页 |
| 4.3.3 掺杂的Ni原子对Cu(100)表面的影响 | 第45-47页 |
| 4.3.4 C原子在Ni-Cu(100)表面上的迁移和聚合 | 第47-48页 |
| 4.3.5 Ni-Cu(100)表面的稳定性 | 第48页 |
| 4.3.6 微观动力学模型 | 第48-52页 |
| 4.4 本章小结 | 第52-53页 |
| 第5章 结论 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-60页 |
| 作者简介 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61页 |
