阳极氧化铝膜新型制备工艺及其过滤性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 引言 | 第10-11页 |
| 1 文献综述 | 第11-34页 |
| ·无机分离膜简介 | 第12-13页 |
| ·无机膜的分类 | 第13-14页 |
| ·无机膜的特点 | 第14页 |
| ·多孔陶瓷无机膜的制备方法 | 第14-18页 |
| ·固态粒子烧结法 | 第15-16页 |
| ·溶胶-凝胶法(Sol-gel) | 第16-17页 |
| ·化学气相沉积法(CVD) | 第17-18页 |
| ·阳极氧化法 | 第18页 |
| ·铝的阳极氧化 | 第18-24页 |
| ·化学抛光过程机理研究 | 第19-20页 |
| ·以磷酸为基的化学抛光工艺 | 第20-21页 |
| ·铝阳极氧化的结构和机理 | 第21-23页 |
| ·阳极氧化制备工艺 | 第23页 |
| ·阳极氧化膜的应用 | 第23-24页 |
| ·膜分离过程及分离模型 | 第24-32页 |
| ·分离过程中的传递机理 | 第25-26页 |
| ·微滤过程 | 第26-31页 |
| ·超滤过程 | 第31-32页 |
| ·膜污染及清洗 | 第32页 |
| ·本论文的选题依据和研究内容 | 第32-34页 |
| 2 化学抛光对铝阳极氧化膜影响研究 | 第34-42页 |
| ·实验仪器及方法 | 第34-35页 |
| ·实验仪器 | 第34页 |
| ·实验试剂 | 第34-35页 |
| ·实验方法 | 第35页 |
| ·实验表征 | 第35页 |
| ·结果与讨论 | 第35-41页 |
| ·化学抛光时间与表面粗糙度的关系 | 第35-36页 |
| ·试样面积与抛光液体积之间的关系 | 第36-38页 |
| ·抛光次数对表面粗糙度的影响 | 第38-39页 |
| ·化学抛光温度对表面粗糙度的影响 | 第39-40页 |
| ·不同表面粗糙度下氧化膜的SEM照片 | 第40-41页 |
| ·结论 | 第41-42页 |
| 3 带有支撑体的阳极氧化铝膜新制备工艺的研究 | 第42-53页 |
| ·实验仪器及方法 | 第42-44页 |
| ·实验仪器 | 第42-43页 |
| ·实验药品 | 第43页 |
| ·实验装置 | 第43页 |
| ·实验方法 | 第43-44页 |
| ·结果与讨论 | 第44-52页 |
| ·预处理的作用 | 第44页 |
| ·铝片厚度随碱蚀反应时间的变化关系 | 第44-45页 |
| ·铝片厚度随化学抛光反应时间的变化关系 | 第45-46页 |
| ·铝片厚度随电解时间的变化关系曲线 | 第46-48页 |
| ·阳极氧化 | 第48-52页 |
| ·结论 | 第52-53页 |
| 4 阳极氧化铝膜对过滤聚乙二醇的过程研究 | 第53-65页 |
| ·实验仪器及方法 | 第53-57页 |
| ·实验仪器 | 第53-54页 |
| ·实验药品 | 第54页 |
| ·聚乙二醇标准曲线的制作及截留率的测定 | 第54-55页 |
| ·实验用膜 | 第55页 |
| ·过滤实验装置 | 第55页 |
| ·纯水通量测定 | 第55-57页 |
| ·结果与讨论 | 第57-63页 |
| ·聚乙二醇浓度对膜污染的影响 | 第57-59页 |
| ·操作压差对膜污染的影响 | 第59-61页 |
| ·去除阻挡层的浸蚀时间对膜污染的影响 | 第61-62页 |
| ·膜清洗 | 第62-63页 |
| ·结论 | 第63-65页 |
| 5 膜污染阻力分析及模型计算 | 第65-73页 |
| ·膜污染阻力的计算和模型的构建 | 第65-67页 |
| ·膜污染阻力的计算 | 第65-66页 |
| ·阻塞模型 | 第66-67页 |
| ·结果与讨论 | 第67-72页 |
| ·不同聚乙二醇浓度下的膜污染阻力分析 | 第67页 |
| ·不同操作压差下的膜污染阻力分析 | 第67-68页 |
| ·不同浸泡时间下的膜污染阻力分析 | 第68页 |
| ·模型计算 | 第68-72页 |
| ·结论 | 第72-73页 |
| 结论 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-79页 |
| 附录A 聚乙二醇标准曲线及截留率的测试方法 | 第79-81页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82-84页 |
