| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-14页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 研究背景及意义 | 第10-11页 |
| 1.3 国内外研究现状 | 第11-13页 |
| 1.4 主要研究内容 | 第13-14页 |
| 第二章 全息-浸没式光刻技术 | 第14-31页 |
| 2.1 光刻胶特性的研究 | 第14-22页 |
| 2.1.1 显影时间对光栅槽形的影响 | 第15-16页 |
| 2.1.2 曝光量对光栅槽形的影响 | 第16-19页 |
| 2.1.3 不同光刻胶对光栅槽形的影响 | 第19-21页 |
| 2.1.4 本节小结 | 第21-22页 |
| 2.2 全息-浸没式光刻技术 | 第22-27页 |
| 2.2.1 直角棱镜的折射率测量 | 第23-25页 |
| 2.2.2 深亚波长光栅掩模制作 | 第25-27页 |
| 2.3 金属基底中的全息光刻 | 第27-30页 |
| 2.4 小结 | 第30-31页 |
| 第三章 金属光栅分析理论与设计 | 第31-48页 |
| 3.1 时域有限差分法 | 第31-37页 |
| 3.1.1 构成FDTD理论的基本点 | 第31-34页 |
| 3.1.2 二维情况下的FDTD | 第34-37页 |
| 3.2 金属光栅偏振器设计 | 第37-43页 |
| 3.2.1 单层金属光栅 | 第37-42页 |
| 3.2.2 双层金属光栅 | 第42-43页 |
| 3.3 工艺误差对金属光栅偏振性能的影响 | 第43-47页 |
| 3.3.1 占空比对金属光栅偏振性能的影响 | 第44-45页 |
| 3.3.2 光栅槽型对单层金属光栅偏振性能的影响 | 第45-46页 |
| 3.3.3 金属层高度对双层金属光栅偏振性能的影响 | 第46-47页 |
| 3.4 小结 | 第47-48页 |
| 第四章 用于可见光波段的金属光栅制作 | 第48-57页 |
| 4.1 引言 | 第48页 |
| 4.2 离子束刻蚀技术简介 | 第48-50页 |
| 4.3 金属光栅制作 | 第50-56页 |
| 4.3.1 单层金属光栅的制作 | 第50-53页 |
| 4.3.2 双层金属光栅的制作 | 第53-56页 |
| 4.4 小结 | 第56-57页 |
| 第五章 总结与展望 | 第57-59页 |
| 5.1 总结 | 第57-58页 |
| 5.2 展望 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |