摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-12页 |
第1章 绪论 | 第12-29页 |
·引言 | 第12-13页 |
·薄膜晶体管的发展现状 | 第13-18页 |
·不同半导体沟道TFT 的性能比较 | 第13-14页 |
·氧化物半导体TFT 的综述 | 第14-18页 |
·晶体管的分类及工作原理 | 第18-21页 |
·晶体管的分类 | 第18-19页 |
·薄膜晶体管的工作原理 | 第19-20页 |
·薄膜晶体管的电学性能分析 | 第20-21页 |
·薄膜晶体管的应用 | 第21-24页 |
·薄膜晶体管在LCD 中的应用 | 第21-23页 |
·薄膜晶体管在OLED 中的应用 | 第23-24页 |
·薄膜晶体管在传感器中的应用 | 第24页 |
·本文的选题依据 | 第24-27页 |
·本文主要研究内容以及章节的安排 | 第27-29页 |
第2章 低压双电层ITO 薄膜晶体管 | 第29-43页 |
·引言 | 第29页 |
·实验部分 | 第29-33页 |
·磁控溅射法 | 第29-31页 |
·等离子体增强化学气相沉积技术 | 第31页 |
·双电层ITO 薄膜晶体管的制备 | 第31-33页 |
·实验结果与讨论 | 第33-41页 |
·ITO 薄膜的分析 | 第33-35页 |
·介孔SiO_2 薄膜的分析 | 第35-38页 |
·双电层的ITO 薄膜晶体管的性能分析 | 第38-41页 |
·本章小结 | 第41-43页 |
第3章 低压双电层透明ZnO 薄膜晶体管 | 第43-54页 |
·引言 | 第43-44页 |
·实验试剂和设备 | 第44页 |
·低压透明ZnO 双电层薄膜晶体管的制备 | 第44-45页 |
·实验结果与讨论 | 第45-53页 |
·ZnO:Al 薄膜的结构和形貌分析 | 第45-46页 |
·ZnO:Al 薄膜的电学和光学性能的分析 | 第46-47页 |
·介孔SiO_2 的形貌和成分分析 | 第47-48页 |
·介孔SiO_2 的电学性能分析 | 第48-50页 |
·透明ZnO:Al 薄膜晶体管的性能以及光照对其性能的影响 | 第50-53页 |
·透明ZnO:Al 薄膜晶体管的工作机理 | 第53页 |
·本章小结 | 第53-54页 |
第4章 低压双电层ITO 透明薄膜晶体管 | 第54-67页 |
·引言 | 第54页 |
·实验试剂和设备 | 第54页 |
·ITO 透明薄膜晶体管的制备 | 第54-56页 |
·ITO 透明薄膜晶体管的结构 | 第54-55页 |
·ITO 透明薄膜晶体管的制备 | 第55-56页 |
·实验结果与讨论 | 第56-61页 |
·不同氧压下制备的ITO TTFT 的电学性能 | 第56-60页 |
·ITO TTFT 的透光率 | 第60-61页 |
·ITO 透明薄膜晶体管的稳定性 | 第61-66页 |
·本章小结 | 第66-67页 |
第5章 单掩模自组装低压双电层ITO 透明薄膜晶体管 | 第67-78页 |
·引言 | 第67页 |
·实验试剂和设备 | 第67页 |
·单掩模自组装ITO 透明薄膜晶体管的制备过程 | 第67-69页 |
·实验结果与讨论 | 第69-76页 |
·单掩模自组装ITO TTFT 的沟道与电极薄膜 | 第69-72页 |
·介孔SiO_2 的电学性能分析 | 第72页 |
·单掩模自组装ITO TTFT 的电学性能分析 | 第72-75页 |
·单掩模法制备的不同沟道厚度ITO TTFT 的电学性能分析 | 第75-76页 |
·本章小结 | 第76-78页 |
第6章 单掩模自组装低压ITO 纸张薄膜晶体管 | 第78-88页 |
·引言 | 第78页 |
·实验试剂和设备 | 第78-79页 |
·单掩模自组装ITO 纸张薄膜晶体管的制备过程 | 第79-80页 |
·单掩模自组装ITO 纸张薄膜晶体管的性能分析 | 第80-87页 |
·纸张薄膜晶体管沟道与电极的形貌与电学性能分析 | 第80-81页 |
·纸张上SiO_2 的形貌分析及电学性能分析 | 第81-82页 |
·单掩模自组装ITO 纸张晶体管的电学性能分析 | 第82-86页 |
·单掩模自组装ITO 纸张晶体管弯曲后的电学性能分析 | 第86-87页 |
·本章小结 | 第87-88页 |
结论 | 第88-91页 |
一、结论 | 第88-89页 |
二、展望 | 第89-91页 |
参考文献 | 第91-111页 |
致谢 | 第111-112页 |
附录A 攻读学位期间发表的学术论文情况 | 第112-113页 |