| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 表面等离子体概述 | 第11-16页 |
| 1.2.1 表面等离子体的色散关系 | 第12-14页 |
| 1.2.2 表面等离子体的激发方式 | 第14-16页 |
| 1.3 表面等离子体非对称激发概述 | 第16-20页 |
| 1.3.1 不对称微纳结构非对称激发SPP | 第16-19页 |
| 1.3.2 入射光偏振不对称非对称激发SPP | 第19-20页 |
| 1.4 本文的主要研究内容及章节安排 | 第20-22页 |
| 参考文献 | 第22-25页 |
| 第2章 高阶模厄米高斯光束的分析与产生 | 第25-39页 |
| 2.1 高阶厄米高斯光束的数学描述 | 第25-27页 |
| 2.2 高阶厄米高斯光束的数值模拟 | 第27-31页 |
| 2.2.1 FDTD原理介绍 | 第27-30页 |
| 2.2.2 FDTD模拟一阶模厄米高斯光束 | 第30-31页 |
| 2.3 高阶厄米高斯光束的产生方法 | 第31-34页 |
| 2.3.1 径向偏振光的生成 | 第31-33页 |
| 2.3.2 一阶模厄米高斯光束的生成 | 第33-34页 |
| 2.4 本章小结 | 第34-36页 |
| 参考文献 | 第36-39页 |
| 第3章 高阶高斯光束与金属狭缝阵列结构理论研究 | 第39-55页 |
| 3.1 单金属狭缝结构的SPP非对称激发 | 第39-43页 |
| 3.1.1 单狭缝模型的理论分析 | 第39-41页 |
| 3.1.2 FDTD模拟单狭缝模型的远场分布 | 第41-43页 |
| 3.2 金属双狭缝结构的SPP激发 | 第43-47页 |
| 3.2.1 金属双狭缝结构的理论分析 | 第43-45页 |
| 3.2.2 FDTD模拟双狭缝模型的远场分布 | 第45-46页 |
| 3.2.3 FDTD模拟双狭缝模型的近场分布 | 第46-47页 |
| 3.3 金属狭缝阵列结构非对称激发SPP | 第47-52页 |
| 3.3.1 基于偶极子理论的金属狭缝阵列结构 | 第47-49页 |
| 3.3.2 FDTD模拟金属狭缝阵列结构的远场分布 | 第49-50页 |
| 3.3.3 FDTD模拟金属狭缝阵列结构的近场分布 | 第50页 |
| 3.3.4 金属狭缝阵列模型的参数分析 | 第50-52页 |
| 3.4 本章小结 | 第52-54页 |
| 参考文献 | 第54-55页 |
| 第4章 基于泄露辐射的SPP非对称激发实验表征 | 第55-71页 |
| 4.1 基于泄露辐射的后焦面成像系统 | 第55-59页 |
| 4.1.1 泄露辐射的原理 | 第55-56页 |
| 4.1.2 后焦面成像原理 | 第56-58页 |
| 4.1.3 基于Olympus X71型倒置显微镜的LRM系统 | 第58-59页 |
| 4.2 SPP非对称激发效应的后焦面表征 | 第59-64页 |
| 4.2.1 金属狭缝阵列结构的制备 | 第59-61页 |
| 4.2.2 后焦面表征的实验结果及分析 | 第61-63页 |
| 4.2.3 动态调控SPP非对称激发分束比的实验结果 | 第63-64页 |
| 4.3 SPP非对称激发效应的前焦面表征 | 第64-67页 |
| 4.3.1 光栅表征表面等离子体概述 | 第64-66页 |
| 4.3.2 刻有光栅的金属狭缝阵列结构的制备 | 第66页 |
| 4.3.3 前焦面表征的实验结果及分析 | 第66-67页 |
| 4.4 本章小结 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-71页 |
| 第5章 工作总结与展望 | 第71-73页 |
| 5.1 工作总结 | 第71-72页 |
| 5.2 展望 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第74页 |
| 本论文的研究工作得到以下基金的资助 | 第74页 |
