| 摘要 | 第7-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 第1章 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 研究背景 | 第10-13页 |
| 1.1.1 ZnO的基本性质 | 第11-12页 |
| 1.1.2 ZnO的研究现状 | 第12-13页 |
| 1.2 ZnO薄膜的制备方法 | 第13-17页 |
| 1.2.1 分子束外延法 | 第14页 |
| 1.2.2 磁控溅射法 | 第14-15页 |
| 1.2.3 脉冲激光沉积法 | 第15-16页 |
| 1.2.4 溶胶-凝胶法 | 第16-17页 |
| 1.2.5 金属有机化学气沉积法 | 第17页 |
| 1.3 ZnO的光学特性 | 第17-18页 |
| 1.4 本论文主要研究内容 | 第18-19页 |
| 第2章 ZnO薄膜的MOCVD生长与表征方法 | 第19-26页 |
| 2.1 MOCVD系统介绍 | 第19-22页 |
| 2.2 实验操作和所用药品与仪器 | 第22-23页 |
| 2.2.1 实验操作过程 | 第22页 |
| 2.2.2 实验所用药品与仪器 | 第22-23页 |
| 2.3 样品的表征方法 | 第23-26页 |
| 2.3.1 X射线衍射 | 第23-24页 |
| 2.3.2 光致发光光谱 | 第24-25页 |
| 2.3.3 紫外可见吸收光谱 | 第25-26页 |
| 第3章 MOCVD制备无掺杂ZnO薄膜的研究 | 第26-42页 |
| 3.1 锌源蒸发温度对制备ZnO薄膜的影响 | 第26-27页 |
| 3.1.1 实验内容 | 第26页 |
| 3.1.2 结果与讨论 | 第26-27页 |
| 3.2 锌源的更换对制备ZnO薄膜的影响 | 第27-28页 |
| 3.2.1 实验内容 | 第27页 |
| 3.2.2 结果与讨论 | 第27-28页 |
| 3.3 沉积温度对制备ZnO薄膜的影响 | 第28-32页 |
| 3.3.1 实验内容 | 第28页 |
| 3.3.2 沉积温度对ZnO薄膜结构的影响 | 第28-30页 |
| 3.3.3 沉积温度对ZnO薄膜光学性质的影响 | 第30-32页 |
| 3.4 氧气流量对制备ZnO薄膜的影响 | 第32-36页 |
| 3.4.1 实验内容 | 第32页 |
| 3.4.2 氧气流量对ZnO薄膜结构的影响 | 第32-33页 |
| 3.4.3 氧气流量对ZnO薄膜光学性质的影响 | 第33-36页 |
| 3.5 锌源流量对制备ZnO薄膜的影响 | 第36-40页 |
| 3.5.1 实验内容 | 第36页 |
| 3.5.2 锌源流量对ZnO薄膜结构的影响 | 第36-37页 |
| 3.5.3 锌源流量对ZnO薄膜光学性质的影响 | 第37-40页 |
| 3.6 热处理对制备ZnO薄膜的影响 | 第40页 |
| 3.6.1 实验内容 | 第40页 |
| 3.6.2 结果与讨论 | 第40页 |
| 3.7 本章小结 | 第40-42页 |
| 第4章 MOCVD制备Na-N共掺ZnO薄膜的研究 | 第42-57页 |
| 4.1 Na掺杂对ZnO薄膜的影响 | 第42-47页 |
| 4.1.1 实验内容 | 第42页 |
| 4.1.2 Na掺杂浓度对ZnO薄膜结构的影响 | 第42-44页 |
| 4.1.3 Na掺杂浓度对ZnO薄膜光学性质的影响 | 第44-47页 |
| 4.2 N掺杂对Na-N共掺ZnO薄膜的影响 | 第47-53页 |
| 4.2.1 实验内容 | 第47-48页 |
| 4.2.2 N掺杂浓度对Na-N共掺ZnO薄膜结构的影响 | 第48-49页 |
| 4.2.3 N掺杂浓度对Na-N共掺ZnO薄膜光学性质的影响 | 第49-53页 |
| 4.3 N掺杂对ZnO薄膜的影响 | 第53-54页 |
| 4.3.1 实验内容 | 第53页 |
| 4.3.2 N掺杂浓度对ZnO薄膜结构的影响 | 第53-54页 |
| 4.3.3 N掺杂浓度对ZnO薄膜光学性质的影响 | 第54页 |
| 4.4 气体流量对ZnO薄膜的影响 | 第54-55页 |
| 4.4.1 实验内容 | 第54-55页 |
| 4.4.2 结果与讨论 | 第55页 |
| 4.5 本章小结 | 第55-57页 |
| 结论 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 附录攻读学位期间发表的学术论文 | 第65页 |
