| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-25页 |
| 1.1 研究背景 | 第10-11页 |
| 1.2 C/C复合材料简介 | 第11-15页 |
| 1.2.1 C/C复合材料的制备 | 第11-14页 |
| 1.2.2 C/C复合材料的性能及特点 | 第14-15页 |
| 1.2.3 C/C复合材料的应用 | 第15页 |
| 1.3 C/C复合材料的氧化 | 第15-19页 |
| 1.3.1 C/C复合材料抗氧化性能研究 | 第16-19页 |
| 1.4 C/C复合材料氧化涂层的制备 | 第19-20页 |
| 1.5 MPCVD在刻蚀技术上的应用 | 第20-21页 |
| 1.5.1 刻蚀技术 | 第20-21页 |
| 1.5.2 MPCVD刻蚀基本原理 | 第21页 |
| 1.6 双辉等离子体渗金属技术 | 第21-23页 |
| 1.6.1 基本原理 | 第21-22页 |
| 1.6.2 放电模式 | 第22-23页 |
| 1.6.3 基本技术特点 | 第23页 |
| 1.7 课题的提出 | 第23-25页 |
| 1.7.1 课题的可行性分析 | 第23-24页 |
| 1.7.2 课题的研究内容 | 第24-25页 |
| 第二章 实验及研究方法 | 第25-31页 |
| 2.1 实验方案 | 第25页 |
| 2.2 实验材料 | 第25-26页 |
| 2.3 实验装置 | 第26-28页 |
| 2.3.1 微波等离子化学气相沉积(MPCVD) | 第26-27页 |
| 2.3.2 双辉等离子表面冶金设备 | 第27-28页 |
| 2.4 表征及性能测试 | 第28-31页 |
| 2.4.1 表征方法 | 第28-29页 |
| 2.4.2 性能测试 | 第29-31页 |
| 第三章 表面刻蚀对CoNiCrAlTaHfY多元涂层的影响 | 第31-39页 |
| 3.1 基材刻蚀示意图 | 第31-32页 |
| 3.2 刻蚀形貌 | 第32-33页 |
| 3.3 刻蚀对CoCrAlTaHfYNi多元涂层的影响 | 第33-37页 |
| 3.4 涂层结合强度 | 第37-38页 |
| 3.5 小结 | 第38-39页 |
| 第四章 C/C复合材料表面Co过渡层研究 | 第39-48页 |
| 4.1 Co过渡层组织 | 第39-41页 |
| 4.2 渗Co时间对Co过渡层的影响 | 第41-44页 |
| 4.3 渗Co温度对Co过渡层的影响 | 第44-47页 |
| 4.4 小结 | 第47-48页 |
| 第五章 CoNiCrAlTaHfY/Co多元复合涂层研究 | 第48-61页 |
| 5.1 Co过渡层对CoNiCrAlTaHfY/Co复合涂层的影响 | 第48-51页 |
| 5.1.1 CoNiCrAlTaHfY/Co复合涂层组织 | 第48-50页 |
| 5.1.2 CoNiCrAlTaHfY/Co复合涂层结合强度 | 第50-51页 |
| 5.2 CoNiCrAlTaHfY/Co复合涂层生长方式 | 第51-52页 |
| 5.3 多元共渗时间对CoNiCrAlTaHfY/Co复合涂层的影响 | 第52-55页 |
| 5.4 多元共渗温度对CoNiCrAlTaHfY/Co涂层的影响 | 第55-58页 |
| 5.5 其他因素对CoNiCrAlTaHfY/Co多元涂层的影响 | 第58-60页 |
| 5.5.1 源极与阴极电压的影响 | 第58-59页 |
| 5.5.2 工作气压的影响 | 第59-60页 |
| 5.5.3 源极与阴极间距的影响 | 第60页 |
| 5.6 小结 | 第60-61页 |
| 第六章 CoNiCrAlTaHfY/Co复合涂层高温氧化性能 | 第61-79页 |
| 6.1 600 ℃氧化 | 第61-66页 |
| 6.2 800 ℃氧化 | 第66-70页 |
| 6.3 1000 ℃氧化 | 第70-75页 |
| 6.4 氧化机制分析 | 第75-78页 |
| 6.4.1 C/C复合材料基材氧化机制 | 第75页 |
| 6.4.2 CoNiCrAlTaHfY/Co复合涂层氧化机制 | 第75-78页 |
| 6.5 结论 | 第78-79页 |
| 第七章 结论与展望 | 第79-81页 |
| 7.1 本文结论 | 第79-80页 |
| 7.2 后续展望 | 第80-81页 |
| 参考文献 | 第81-87页 |
| 致谢 | 第87-88页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第88页 |
