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铜及青铜合金在静态和动态薄液膜下的腐蚀行为研究

摘要第8-10页
Abstract第10-12页
第一章 绪论第13-50页
    1.1 引言第13页
    1.2 铜和青铜的大气腐蚀影响因素第13-19页
        1.2.1 环境温度和相对湿度的影响第14-15页
        1.2.2 降雨量的影响第15页
        1.2.3 NH_4~+的影响第15-16页
        1.2.4 Cl~-的影响第16-17页
        1.2.5 SO_2或SO_4~(2-)的影响第17-19页
    1.3 铜及青铜腐蚀产物的表征与鉴定第19-22页
        1.3.1 物理表征方法第19-21页
        1.3.2 电化学方法第21-22页
    1.4 铜和青铜大气腐蚀研究方法进展第22-28页
        1.4.1 现场暴露实验方法第22-24页
        1.4.2 室内加速实验方法第24-25页
        1.4.3 物理手段原位动态实时监测第25-28页
    1.5 薄液膜实验研究进展第28-34页
        1.5.1 传统的薄液膜实验装置及其大气腐蚀中的应用第28-30页
        1.5.2 Kelvin探针技术的开发及其应用第30-33页
        1.5.3 传统薄液膜实验装置的回归及其应用第33-34页
    1.6 本论文研究的目的及意义第34-35页
    参考文献第35-50页
第二章 实验部分第50-53页
    2.1 实验用主要试剂第50页
    2.2 实验用主要电化学装置第50-52页
    2.3 物理表征第52-53页
第三章 纯铜在含氯静态薄液膜下的腐蚀行为研究第53-75页
    3.1 引言第53-54页
    3.2 实验内容和方法第54-55页
        3.2.1 样品材料的制备和腐蚀介质第54-55页
        3.2.2 电化学方法第55页
        3.2.3 物理表征第55页
    3.3 实验结果和讨论第55-69页
        3.3.1 电化学测试第55-61页
        3.3.2 物理表征第61-67页
        3.3.3 铜在静态含氯薄液膜下的腐蚀行为演化机制第67-69页
    3.4 本章小结第69页
    参考文献第69-75页
第四章 α-青铜在静态含氯薄液膜下的腐蚀行为研究第75-96页
    4.1 引言第75-76页
    4.2 实验内容和方法第76-77页
        4.2.1 实验材料第76页
        4.2.2 电化学测试第76-77页
        4.2.3 表面分析和结构表征第77页
    4.3 实验结果和讨论第77-91页
        4.3.1 阴极极化曲线第77-79页
        4.3.2 开路电位随时间的变化第79-80页
        4.3.3 电化学阻抗谱行为第80-85页
        4.3.4 物理表征第85-91页
    4.4 本章小结第91-92页
    参考文献第92-96页
第五章 多相青铜在含氯薄液膜下腐蚀行为—微观相结构的影响第96-116页
    5.1 引言第96-97页
    5.2 实验内容和方法第97-98页
        5.2.1 样品材料的制备和腐蚀介质第97页
        5.2.2 电化学测试第97-98页
        5.2.3 物理表征第98页
    5.3 实验结果和讨论第98-110页
        5.3.1 青铜的微观相结构第98-99页
        5.3.2 微观相结构对青铜电化学腐蚀行为的影响第99-104页
        5.3.3 物理表征第104-110页
    5.4 本章小结第110页
    参考文献第110-116页
第六章 青铜在动态液膜下的腐蚀行为研究—氯离子和硫酸根离子的协同效应第116-133页
    6.1 引言第116-117页
    6.2 实验内容和方法第117-118页
        6.2.1 样品材料的制备和腐蚀介质第117-118页
        6.2.2 实验装置和电化学测试第118页
        6.2.3 物理表征第118页
    6.3 实验结果和讨论第118-128页
        6.3.1 电化学腐蚀行为第118-124页
        6.3.2 腐蚀产物的鉴定和形貌表征第124-128页
    6.4 本章小结第128-129页
    参考文献第129-133页
第七章 结论与展望第133-135页
    7.1 结论第133-134页
    7.2 展望第134-135页
附录第135-136页
致谢第136-137页

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