| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-18页 |
| ·金刚石材料简介及其性质 | 第9-12页 |
| ·金刚石材料简介 | 第9页 |
| ·金刚石的分类 | 第9-10页 |
| ·金刚石材料的性质 | 第10页 |
| ·金刚石薄膜的表征方法 | 第10-12页 |
| ·金刚石的制备方法 | 第12-14页 |
| ·炸药合成法 | 第13页 |
| ·高温高压法 | 第13页 |
| ·水热法、溶剂热法 | 第13-14页 |
| ·低压化学气相沉积法(LPCVD) | 第14页 |
| ·金刚石的表面修饰 | 第14-16页 |
| ·氢终端的金刚石表面 | 第15页 |
| ·氧终端的金刚石表面 | 第15-16页 |
| ·卤素终端的金刚石表面 | 第16页 |
| ·氨基终端的金刚石表面 | 第16页 |
| ·金刚石薄膜修饰后的应用 | 第16-17页 |
| ·本论文主要研究内容 | 第17-18页 |
| 第二章 HFCVD 制备金刚石薄膜 | 第18-32页 |
| ·金刚石的硼掺杂 | 第18-19页 |
| ·掺硼金刚石薄膜的电化学性质 | 第19-22页 |
| ·宽电化学窗口 | 第19-21页 |
| ·低背景电流 | 第21页 |
| ·高化学稳定性 | 第21页 |
| ·低吸附性 | 第21-22页 |
| ·HFCVD 沉积金刚石薄膜设备介绍 | 第22-24页 |
| ·实验部分 | 第24-28页 |
| ·试剂与溶液 | 第24页 |
| ·金刚石膜的制备实验具体步骤 | 第24-28页 |
| ·实验结果与讨论 | 第28-32页 |
| ·衬底表面处理的影响 | 第28页 |
| ·灯丝碳化的影响 | 第28-29页 |
| ·金刚石的表征 | 第29-30页 |
| ·小结 | 第30-32页 |
| 第三章 氨基修饰BDD 电极 | 第32-39页 |
| ·金刚石的表面状态及其可修饰性 | 第32-33页 |
| ·氨基修饰BDD 电极的实验方法 | 第33-35页 |
| ·实验条件 | 第33页 |
| ·样品的制备 | 第33-35页 |
| ·实验结果及讨论 | 第35-37页 |
| ·XPS（X-ray photoelectron spectroscopy）光谱分析简介 | 第35页 |
| ·实验数据及其分析 | 第35-37页 |
| ·结论 | 第37-39页 |
| 第四章 氨基修饰后Ta/BDD 电极的应用 | 第39-46页 |
| ·循环伏安测试 | 第39-41页 |
| ·基本原理 | 第39-40页 |
| ·实验条件 | 第40-41页 |
| ·实验结果与讨论 | 第41-44页 |
| ·Ta/BDD 电极的背景电流循环伏安曲线图 | 第41-42页 |
| ·Ta/BDD 电极在不同PH 值介质中的循环伏安曲线图 | 第42页 |
| ·Ta/BDD 电极与其他电极循环伏安曲线对比图 | 第42-43页 |
| ·氨基修饰后的Ta/BDD 电极检测水中的对硝基苯酚 | 第43-44页 |
| ·总结 | 第44-46页 |
| 第五章 总结与展望 | 第46-48页 |
| ·工作总结 | 第46-47页 |
| ·工作展望 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-52页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
