基于约束液面面成型3D打印的工艺优化研究
| 摘要 | 第9-10页 |
| Abstract | 第10-11页 |
| 第1章 绪论 | 第12-22页 |
| 1.1 课题研究背景与意义 | 第12-14页 |
| 1.2 面成型工艺研究现状 | 第14-16页 |
| 1.3 优化方向研究现状 | 第16-20页 |
| 1.3.1 精度提升方法研究现状 | 第16-17页 |
| 1.3.2 分离工艺研究现状 | 第17-20页 |
| 1.4 课题研究内容与论文结构 | 第20-22页 |
| 第2章 面成型工艺原理与优化原理 | 第22-32页 |
| 2.1 面成型工艺原理 | 第22-25页 |
| 2.1.1 自由液面成型与约束液面成型 | 第23-25页 |
| 2.1.2 约束液面成型工艺限制 | 第25页 |
| 2.2 像素偏移方法原理 | 第25-27页 |
| 2.3 约束液面面成型分离过程与影响因素 | 第27-31页 |
| 2.3.1 分离过程 | 第28-30页 |
| 2.3.2 最大分离力影响因素 | 第30-31页 |
| 2.4 本章小结 | 第31-32页 |
| 第3章 像素偏移方法实现与算法 | 第32-44页 |
| 3.1 像素偏移原型机构建 | 第32-37页 |
| 3.1.1 实验原型机硬件 | 第32-35页 |
| 3.1.2 实验原型机软件 | 第35-37页 |
| 3.2 像素偏移打印流程 | 第37-38页 |
| 3.3 像素偏移掩膜图像生成算法 | 第38-40页 |
| 3.3.1 轮廓内部填充 | 第38-39页 |
| 3.3.2 轮廓像素灰度值计算 | 第39-40页 |
| 3.3.3 像素偏移掩膜图像生成 | 第40页 |
| 3.4 偏移掩膜图像曝光时间分配 | 第40-43页 |
| 3.5 本章小结 | 第43-44页 |
| 第4章 分离工艺优化方法 | 第44-54页 |
| 4.1 分离力全流程监控 | 第44-46页 |
| 4.2 固化层纹路助分离原理 | 第46-48页 |
| 4.3 固化层纹路生成算法 | 第48-50页 |
| 4.4 打印失败在线监测 | 第50-52页 |
| 4.5 本章小结 | 第52-54页 |
| 第5章 系统实验与验证 | 第54-72页 |
| 5.1 像素偏移方法实验验证 | 第54-61页 |
| 5.1.1 图像分配曝光时间必要性验证 | 第54-56页 |
| 5.1.2 直线边界实验验证 | 第56-58页 |
| 5.1.3 圆弧边界实验验证 | 第58-59页 |
| 5.1.4 实物打印验证 | 第59-61页 |
| 5.2 分离工艺优化实验验证 | 第61-71页 |
| 5.2.1 固化层纹路助分离验证 | 第61-63页 |
| 5.2.2 不同纹路对最大分离力影响 | 第63-70页 |
| 5.2.3 打印缺陷 | 第70页 |
| 5.2.4 实验结果分析 | 第70-71页 |
| 5.3 本章小结 | 第71-72页 |
| 总结和展望 | 第72-74页 |
| 总结 | 第72页 |
| 创新点 | 第72-73页 |
| 展望 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第79页 |
