| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-20页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 金属酞菁材料的结构、性质及其应用 | 第9-16页 |
| 1.2.1 金属酞菁材料的结构 | 第9-13页 |
| 1.2.2 金属酞菁材料的性质及其应用 | 第13-16页 |
| 1.3 全氟酞菁铜的研究 | 第16-18页 |
| 1.4 本论文的研究内容、目的及意义 | 第18-20页 |
| 第二章 全氟酞菁铜纳米线的制备与表征 | 第20-26页 |
| 2.1 引言 | 第20页 |
| 2.2 全氟酞菁铜纳米线的制备 | 第20-21页 |
| 2.3 测试和表征 | 第21-26页 |
| 2.3.1 扫描电子显微镜(SEM) | 第21-23页 |
| 2.3.2 X射线衍射仪(XRD) | 第23-24页 |
| 2.3.3 紫外-可见吸收光谱仪(UV-Vis) | 第24-25页 |
| 2.3.4 X射线光电子能谱(XPS) | 第25-26页 |
| 第三章 全氟酞菁铜(F_(16)CuPc)纳米线的表征 | 第26-40页 |
| 3.1 引言 | 第26页 |
| 3.2 全氟酞菁铜(F_(16))纳米线的形貌表征 | 第26-27页 |
| 3.3 全氟酞菁铜(F_(16)CuPc)纳米线的化学成分分析 | 第27-29页 |
| 3.3.1 全氟酞菁铜(F_(16)CuPc)纳米线的能量分散谱(EDS)分析 | 第27-28页 |
| 3.3.2 全氟酞菁铜(F_(16)CuPc)纳米线的X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第28-29页 |
| 3.3.3 全氟酞菁铜(F_(16)CuPc)纳米线的傅里叶变换红外光谱(FTIR)分析 | 第29页 |
| 3.4 全氟酞菁铜(F_(16)CuPc)纳米线的晶体结构分析 | 第29-35页 |
| 3.4.1 全氟酞菁铜(F_(16)CuPc)纳米线的X射线衍射图谱(XRD)分析 | 第29-32页 |
| 3.4.2 全氟酞菁铜(F_(16)CuPc)纳米线的分子排列分析 | 第32-35页 |
| 3.5 全氟酞菁铜(F_(16)CuPc)纳米线的相互作用和磁性的研究 | 第35-37页 |
| 3.6 全氟酞菁铜(F_(16)CuPc)纳米线的紫外-可见光谱的研究 | 第37-39页 |
| 3.7 本章总结 | 第39-40页 |
| 第四章 退火对全氟酞菁铜(F_(16)CuPc)纳米线的影响 | 第40-49页 |
| 4.1 引言 | 第40页 |
| 4.2 前躯体温度对全氟酞菁铜纳米线形貌、晶体结构和光学性质的影响 | 第40-44页 |
| 4.2.1 前躯体温度对全氟酞菁铜纳米线形貌的影响 | 第40-41页 |
| 4.2.2 前躯体温度对全氟酞菁铜纳米线晶体结构和分子排列的影响 | 第41-43页 |
| 4.2.3 前躯体温度对全氟酞菁铜纳米线紫外-可见吸收的影响 | 第43-44页 |
| 4.3 退火温度对全氟酞菁铜纳米线的影响 | 第44-47页 |
| 4.3.1 不同退火温度下全氟酞菁铜纳米线的XRD图谱 | 第44-45页 |
| 4.3.2 不同退火温度下全氟酞菁铜纳米线的热重分析图谱 | 第45-47页 |
| 4.3.3 不同退火温度下全氟酞菁铜纳米线的扫描电镜图(SEM) | 第47页 |
| 4.4 本章总结 | 第47-49页 |
| 第五章 总结与展望 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-58页 |
| 附录 攻读硕士学位期间的论文发表和参加科研工作的情况 | 第58-60页 |
| 致谢 | 第60页 |
