| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-16页 |
| 1.1 OEIC的研究背景及意义 | 第9页 |
| 1.2 OEIC中光波导的发展 | 第9-14页 |
| 1.3 本论文的主要工作 | 第14-16页 |
| 第2章 灰度光刻掩膜版制备的研究 | 第16-28页 |
| 2.1 激光加工技术 | 第16页 |
| 2.2 灰度光刻掩膜版材料的选择 | 第16-20页 |
| 2.2.1 石英玻璃 | 第17页 |
| 2.2.2 高分子聚合物 | 第17-20页 |
| 2.3 CO_2激光器加工PMMA原理 | 第20-24页 |
| 2.3.1 CO_2激光器加工PMMA理论基础 | 第20-22页 |
| 2.3.2 CO_2激光器加工PMMA过程分析 | 第22-24页 |
| 2.4 灰度光刻掩膜版的制备方法 | 第24-25页 |
| 2.4.1 CO_2激光器加工PMMA基片 | 第24页 |
| 2.4.2 蒸镀灰度光刻掩膜版铝掩膜 | 第24-25页 |
| 2.5 检测灰度光刻形成的斜面角度 | 第25-28页 |
| 第3章 三维光波导器件制备方法研究 | 第28-45页 |
| 3.1 光波导器件理论 | 第28-32页 |
| 3.2 ICP刻蚀技术研究 | 第32-36页 |
| 3.2.1 ICP刻蚀技术的优势 | 第32-33页 |
| 3.2.2 ICP刻蚀参数研究 | 第33-36页 |
| 3.3 三维光波导器件下层波导制备 | 第36-38页 |
| 3.4 光敏材料制作三维光波导器件上层波导 | 第38-40页 |
| 3.5 非光敏材料制作三维光波导器件上层波导 | 第40-42页 |
| 3.6 基于绿光光波导放大器利用灰度光刻技术制作三维光波导器件 | 第42-45页 |
| 第4章 压印技术研究与展望 | 第45-52页 |
| 4.1 压印技术优势 | 第45-46页 |
| 4.2 热压印制作三维光波导器件下层波导 | 第46-48页 |
| 4.3 紫外压印 | 第48-52页 |
| 4.3.1 材料选择 | 第49-50页 |
| 4.3.2 紫外压印制作三维波导器件上层波导 | 第50-52页 |
| 第5章 总结 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-59页 |
| 作者简介及科研成果 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60页 |