| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-15页 |
| ·左手介质的研究进展 | 第9-13页 |
| ·起步阶段 | 第9-10页 |
| ·深入研究阶段 | 第10-12页 |
| ·应用研究阶段 | 第12-13页 |
| ·论文的主要内容及结构安排 | 第13-15页 |
| 第二章 左手介质的基本理论和实验构造方法 | 第15-32页 |
| ·左手介质的相关理论 | 第15-21页 |
| ·左手介质遵守麦克斯韦方程 | 第15-19页 |
| ·负介质交界处的边界条件 | 第19-21页 |
| ·左手介质的负折射原理 | 第21页 |
| ·左手介质的实验构造方法 | 第21-32页 |
| ·等效负介电常数 | 第22-26页 |
| ·等效负磁导率 | 第26-29页 |
| ·Smith结构左手介质 | 第29-32页 |
| 第三章 正负介质涂覆下金属柱的电磁散射特性分析 | 第32-39页 |
| ·理论分析 | 第32-35页 |
| ·数值计算 | 第35-38页 |
| ·单双层介质涂覆的金属柱双站RCS比较 | 第35-36页 |
| ·内层正介质厚度对后向散射场的影响 | 第36-37页 |
| ·外层左手介质厚度对后向散射场的影响 | 第37-38页 |
| ·结论 | 第38-39页 |
| 第四章 正负介质填充的多层介质圆柱电磁散射特性研究 | 第39-46页 |
| ·本征函数法 | 第39-43页 |
| ·矢量位函数 | 第39-40页 |
| ·基于位函数展开各层总场 | 第40-41页 |
| ·参数矩阵的推导 | 第41-43页 |
| ·双层介质圆柱 | 第43-45页 |
| ·正介质涂覆的双层介质圆柱 | 第43-44页 |
| ·左手介质涂覆的双层介质圆柱 | 第44-45页 |
| ·结论 | 第45-46页 |
| 第五章 介质偏心涂覆的金属柱电磁散射特性研究 | 第46-54页 |
| ·概述 | 第46-47页 |
| ·理论分析 | 第47-49页 |
| ·数值计算结果 | 第49-53页 |
| ·常规介质偏心涂覆的金属柱双站RCS | 第49-50页 |
| ·左手介质偏心涂覆的金属柱双站RCS | 第50-51页 |
| ·入射波变化时的金属柱双站RCS | 第51-53页 |
| ·小结 | 第53-54页 |
| 第六章 结束语 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 攻读硕士期间的科研情况 | 第62页 |