| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第14-27页 |
| 1.1 引言 | 第14-15页 |
| 1.2 应变工程 | 第15-16页 |
| 1.3 应变调控的磁各向异性研究进展 | 第16-24页 |
| 1.3.1 磁各向异性的概述 | 第16-17页 |
| 1.3.2 应变调控磁各向异性的研究进展 | 第17-24页 |
| 1.4 本文选题依据与主要内容 | 第24-27页 |
| 1.4.1 本文的选题依据 | 第24-26页 |
| 1.4.2 本文研究的主要内容 | 第26-27页 |
| 第2章 薄膜的制备工艺与表征方法 | 第27-46页 |
| 2.1 薄膜制备与表征技术 | 第27-34页 |
| 2.1.1 PLD原理 | 第27-29页 |
| 2.1.2 结构与性能表征 | 第29-34页 |
| 2.2 薄膜制备与表征 | 第34-43页 |
| 2.2.1 沉积温度对NFO薄膜的影响 | 第34-37页 |
| 2.2.2 激光能量对NFO薄膜的影响 | 第37-39页 |
| 2.2.3 沉积氧压对NFO薄膜的影响 | 第39-42页 |
| 2.2.4 后退火对NFO薄膜的影响 | 第42-43页 |
| 2.3 薄膜磁学性能表征 | 第43-45页 |
| 2.4 本章小结 | 第45-46页 |
| 第3章 不同取向NiFe_2O_4薄膜磁各向异性研究 | 第46-58页 |
| 3.1 样品的制备和微结构特性表征 | 第46-50页 |
| 3.1.1 样品制备 | 第46-47页 |
| 3.1.2 薄膜晶体结构的表征 | 第47-50页 |
| 3.2 薄膜的形貌表征 | 第50-52页 |
| 3.2.1 NFO薄膜的AFM表面形貌 | 第50-51页 |
| 3.2.2 NFO薄膜的TEM分析 | 第51-52页 |
| 3.3 薄膜磁滞回线 | 第52-54页 |
| 3.4 NiFe_2O_4的磁矩翻转研究 | 第54-57页 |
| 3.5 本章小结 | 第57-58页 |
| 第4章 应变调控外延NiFe_2O_4薄膜磁各向异性研究 | 第58-66页 |
| 4.1 样品的制备和微结构特性表征 | 第59-62页 |
| 4.1.1 样品制备 | 第59页 |
| 4.1.2 薄膜晶体结构的表征 | 第59-62页 |
| 4.1.3 薄膜的成分分析 | 第62页 |
| 4.2 薄膜的形貌表征 | 第62-64页 |
| 4.2.1 NFO薄膜的AFM表面形貌 | 第62-63页 |
| 4.2.2 NFO薄膜的TEM分析 | 第63-64页 |
| 4.3 薄膜磁滞回线 | 第64-65页 |
| 4.4 本章小结 | 第65-66页 |
| 全文总结与展望 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-75页 |
| 附录：攻读硕士学位期间的论文成果 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76页 |