直流/射频耦合磁控溅射类金刚石薄膜的制备与性能研究
摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
1 绪论 | 第12-20页 |
1.1 DLC薄膜 | 第12-13页 |
1.1.1 DLC薄膜的结构 | 第12页 |
1.1.2 DLC薄膜的研究进展 | 第12-13页 |
1.2 DLC薄膜的性能与应用 | 第13-14页 |
1.2.1 DLC薄膜的力学性能及应用 | 第13-14页 |
1.2.2 DLC薄膜的光学性能及应用 | 第14页 |
1.2.3 DLC薄膜的其他性能及应用 | 第14页 |
1.3 DLC薄膜常用的制备方法 | 第14-18页 |
1.3.1 物理气相沉积法 | 第15-17页 |
1.3.2 化学气相沉积法 | 第17-18页 |
1.4 DLC薄膜目前存在的主要问题 | 第18页 |
1.5 本课题的研究背景及意义 | 第18-19页 |
1.6 本课题的研究内容 | 第19-20页 |
2 DLC薄膜的制备及表征方法 | 第20-27页 |
2.1 引言 | 第20页 |
2.2 DLC薄膜的制备方法及条件 | 第20-23页 |
2.2.1 磁控溅射镀膜的基本原理 | 第20-21页 |
2.2.2 实验设备 | 第21-22页 |
2.2.3 基底清洗 | 第22-23页 |
2.2.4 样品的制备操作过程 | 第23页 |
2.3 DLC薄膜样品的表征手段 | 第23-27页 |
2.3.1 薄膜厚度的测量 | 第23页 |
2.3.2 白光干涉仪测试 | 第23-24页 |
2.3.3 原子力显微镜(AFM)测试 | 第24页 |
2.3.4 场发射扫描电子显微镜(FE-SEM) | 第24页 |
2.3.5 傅立叶变换红外光谱(FT-IR) | 第24-25页 |
2.3.6 激光Raman光谱 | 第25页 |
2.3.7 X射线光电子能谱(XPS) | 第25页 |
2.3.8 纳米压痕 | 第25-26页 |
2.3.9 应力测试仪 | 第26页 |
2.3.10 X射线小角反射(XRR) | 第26-27页 |
3 工作气压对DLC薄膜结构与性能的影响 | 第27-37页 |
3.1 DLC薄膜工作气压系列样品的制备 | 第27-28页 |
3.2 DLC薄膜工作气压系列样品的测试 | 第28页 |
3.3 工作气压对DLC薄膜结构与性能的影响 | 第28-35页 |
3.3.1 DLC薄膜沉积速率分析 | 第28-29页 |
3.3.2 DLC薄膜结构分析 | 第29-33页 |
3.3.3 DLC薄膜力学性能的分析 | 第33-34页 |
3.3.4 DLC薄膜表面形貌特征分析 | 第34-35页 |
3.4 本章小结 | 第35-37页 |
4 氢气流量对DLC薄膜结构与性能的影响 | 第37-46页 |
4.1 DLC薄膜氢气流量系列样品的制备 | 第37页 |
4.2 DLC薄膜氢气流量系列样品的测试 | 第37页 |
4.3 氢气流量对DLC薄膜结构与性能的影响 | 第37-45页 |
4.3.1 氢气流量对DLC薄膜沉积速率的影响 | 第37-38页 |
4.3.2 氢气流量对DLC薄膜结构的影响 | 第38-41页 |
4.3.3 氢气流量对DLC薄膜力学性能的影响 | 第41-43页 |
4.3.4 氢气流量对DLC薄膜表面形貌的影响 | 第43-45页 |
4.4 本章小结 | 第45-46页 |
5 直流电压对DLC薄膜结构与性能的影响 | 第46-59页 |
5.1 DLC薄膜直流电压系列样品的制备 | 第46页 |
5.2 DLC薄膜直流电压系列样品的测试 | 第46-47页 |
5.3 直流电压对DLC薄膜结构与性能的影响 | 第47-58页 |
5.3.1 直流电压对DLC薄膜沉积速率的影响 | 第47页 |
5.3.2 直流电压对DLC薄膜微观结构的影响 | 第47-52页 |
5.3.3 直流电压对DLC薄膜质量密度的影响 | 第52-54页 |
5.3.4 直流电压对DLC薄膜力学性能的影响 | 第54-56页 |
5.3.5 直流电压对DLC薄膜表面形貌的影响 | 第56-58页 |
5.4 本章小结 | 第58-59页 |
6 微球表面沉积DLC薄膜工艺初探 | 第59-63页 |
6.1 引言 | 第59页 |
6.2 微球表面涂覆DLC薄膜装置 | 第59-60页 |
6.3 微球表面DLC薄膜的形貌及厚度 | 第60-62页 |
6.4 本章小结 | 第62-63页 |
结论 | 第63-64页 |
致谢 | 第64-65页 |
参考文献 | 第65-73页 |
攻读硕士期间发表的学术论文及研究成果 | 第73页 |