| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7页 |
| 第一章 文献综述 | 第10-13页 |
| 引言 | 第10-11页 |
| 1.1 甲烷化催化剂的研究现状 | 第11页 |
| 1.2 CO 甲烷化反应机理的研究现状 | 第11-12页 |
| 1.3 本课题的目的和意义 | 第12-13页 |
| 第二章 理论基础与计算方法 | 第13-22页 |
| 2.1 前言 | 第13-14页 |
| 2.2 分子模拟的主要方法 | 第14-15页 |
| 2.3 密度泛函理论简介 | 第15-18页 |
| 2.3.1 Kohn-Sham 方程 | 第15-16页 |
| 2.3.2 局域密度近似和广义梯度近似 | 第16-17页 |
| 2.3.3 Bloch 定理 | 第17-18页 |
| 2.4 表征吸附性能的几个物理量 | 第18-22页 |
| 2.4.1 吸附 | 第18-19页 |
| 2.4.2 覆盖度 | 第19页 |
| 2.4.3 活化能与过渡态 | 第19-20页 |
| 2.4.4 团簇 | 第20-22页 |
| 第三章 不同覆盖度下 CO 在镍晶面上吸附性能的研究 | 第22-35页 |
| 3.1 引言 | 第22-23页 |
| 3.2 计算方法与模型 | 第23-26页 |
| 3.3 0.25 ML 覆盖度下不同晶面吸附性能的比较 | 第26-31页 |
| 3.3.1 0.25 ML 覆盖度下 CO 在 Ni(111)晶面的吸附 | 第26-28页 |
| 3.3.2 0.25 ML 覆盖度下 CO 在 Ni(100)晶面的吸附 | 第28-29页 |
| 3.3.3 0.25 ML 覆盖度下 CO 在 Ni(110)晶面的吸附 | 第29-30页 |
| 3.3.4 0.25 ML 覆盖度下 C/O 在 Ni(111)、(100)和(110)晶面的吸附 | 第30-31页 |
| 3.4 覆盖度对 CO 在 Ni(111)、(100)和(110)晶面吸附的影响 | 第31-32页 |
| 3.5 覆盖度对 C/O 在 Ni(111)、(100)和(110)晶面吸附的影响 | 第32-33页 |
| 3.6 覆盖度对 CO 在 Ni(111)、(100)和(110)晶面解离的影响 | 第33-34页 |
| 3.7 本章小结 | 第34-35页 |
| 第四章 密度泛函理论研究 H_2在 Ni_n(n = 1-13)团簇表面的吸附 | 第35-45页 |
| 4.1 引言 | 第35-36页 |
| 4.2 计算方法 | 第36页 |
| 4.3 非解离吸附 | 第36-40页 |
| 4.3.1 H_2分子在 Ni_n(n = 4-13)团簇顶点位的平行吸附 | 第36-38页 |
| 4.3.2 H_2分子在 Fe 改性的 Ni_n(n = 4-13)团簇顶点位的平行吸附 | 第38-40页 |
| 4.4 解离吸附/H_2分子在 Ni_n(n = 1-13)团簇桥位和空穴位的平行吸附 | 第40-41页 |
| 4.5 缔合吸附到解离吸附的过渡 | 第41-43页 |
| 4.5.1 途径一：Ni_n(n = 4-7)团簇由三维到二维的过渡 | 第41-42页 |
| 4.5.2 途径二：分子态吸附到原子态吸附的过渡 | 第42-43页 |
| 4.6 物理吸附/ H_2分子在 Ni_4、Ni_6和 Ni_(13)的竖直吸附 | 第43-44页 |
| 4.7 本章小结 | 第44-45页 |
| 第五章 周期性平板模型与团簇模型对吸附作用的评价 | 第45-55页 |
| 5.1 前言 | 第45-46页 |
| 5.2 H_2分子在 Ni(111)、(100)和(110)晶面上的竖直吸附 | 第46-47页 |
| 5.3 Ni_(13)团簇与 Ni(111)晶面吸附强度的对比 | 第47-49页 |
| 5.4 团簇模型在周期性平板模型上的增长 | 第49-54页 |
| 5.4.1 载体 TiO_2 | 第49-51页 |
| 5.4.2 吸附质在 Ni_n(n = 4-13)团簇表面吸附强度的比较 | 第51-53页 |
| 5.4.3 吸附前后团簇的稳定性 | 第53-54页 |
| 5.5 本章小结 | 第54-55页 |
| 第六章 结论与展望 | 第55-57页 |
| 6.1 结论 | 第55-56页 |
| 6.2 展望 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 作者简介 | 第67页 |
