| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第12-34页 |
| 1.1 电致变色和电容器材料制备的目的与意义 | 第12-15页 |
| 1.2 电致变色和赝电容材料研究概况 | 第15-31页 |
| 1.2.1 电致变色材料发展概况 | 第15-20页 |
| 1.2.2 氧化物赝电容材料发展概况 | 第20-25页 |
| 1.2.3 五氧化二钒电致变色和赝电容材料发展概况 | 第25-30页 |
| 1.2.4 文献综述总结 | 第30-31页 |
| 1.3 本文的主要研究内容 | 第31-34页 |
| 第2章 实验材料与研究方法 | 第34-39页 |
| 2.1 实验材料 | 第34-37页 |
| 2.1.1 制备V_2O_5微纳米结构以及电致变色器件所需要的原料 | 第34-36页 |
| 2.1.2 实验设备与实验流程 | 第36-37页 |
| 2.2 材料成分、相组成、价态和微观形貌的表征方法 | 第37-38页 |
| 2.2.1 X射线光电子能谱分析 | 第37页 |
| 2.2.2 X射线衍射分析、高分辨透射电镜和选区电子衍射分析 | 第37页 |
| 2.2.3 拉曼光谱分析 | 第37页 |
| 2.2.4 扫描电镜分析 | 第37-38页 |
| 2.3 材料的电致变色和赝电容性能表征 | 第38-39页 |
| 2.3.1 材料的电致变色性能表征 | 第38页 |
| 2.3.2 材料的赝电容性能表征 | 第38-39页 |
| 第3章 3DOM结构氧化钒薄膜的制备及其性能研究 | 第39-82页 |
| 3.1 聚苯乙烯胶体晶体的制备与表征 | 第39-43页 |
| 3.2 3DOM V_2O_5的电沉积制备 | 第43-55页 |
| 3.3 3DOM氧化钒的电致变色性能和赝电容性能研究 | 第55-70页 |
| 3.3.1 未退火处理的 3DOM氧化钒的电致变色性能研究 | 第55-59页 |
| 3.3.2 锂离子在 3DOM氧化钒中的表观扩散系数测试 | 第59-63页 |
| 3.3.3 3DOM氧化钒薄膜的赝电容性能 | 第63-66页 |
| 3.3.4 基于3DOM氧化钒薄膜和氧化钒致密膜的电致变色器件 | 第66-70页 |
| 3.4 孔径尺寸对于3DOM氧化钒薄膜的电致变色性能的影响 | 第70-80页 |
| 3.5 本章小结 | 第80-82页 |
| 第4章 一维V_2O_5纳米线的制备及其性能研究 | 第82-122页 |
| 4.1 晶粒相互吞并生长理论简介 | 第82-85页 |
| 4.2 热处理 3DOM氧化钒获得V_2O_5纳米棒 | 第85-109页 |
| 4.2.1 制备工艺的优化选择 | 第85-97页 |
| 4.2.2 3D纳米棒结构的电致变色性能 | 第97-105页 |
| 4.2.3 3D纳米棒结构的赝电容性能 | 第105-109页 |
| 4.3 热处理 3DOM氧化钒获得V_2O_5纳米线 | 第109-121页 |
| 4.3.1 制备工艺的优化选择 | 第110-117页 |
| 4.3.2 3D纳米线结构的赝电容性能和电致变色性能 | 第117-121页 |
| 4.4 本章小结 | 第121-122页 |
| 第5章 V_2O_5/导电聚合物复合结构的制备及性能研究 | 第122-134页 |
| 5.1 电沉积包覆工艺的选择 | 第123-128页 |
| 5.2 导电聚合物包覆层对 3D V_2O_5纳米线结构电化学性能的影响 | 第128-132页 |
| 5.3 本章小结 | 第132-134页 |
| 结论 | 第134-136页 |
| 参考文献 | 第136-152页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文及其它成果 | 第152-155页 |
| 致谢 | 第155-156页 |
| 个人简历 | 第156页 |
