摘要 | 第2-3页 |
Abstract | 第3-4页 |
1 绪论 | 第7-20页 |
1.1 超疏水表面的液滴饼状弹跳的定义 | 第7页 |
1.2 超疏水表面的液滴饼状弹跳研究意义 | 第7-8页 |
1.3 超疏水表面的液滴弹跳研究现状 | 第8-13页 |
1.3.1 平整超疏水表面的液滴弹跳 | 第8-9页 |
1.3.2 非平整超疏水表面的液滴弹跳 | 第9-12页 |
1.3.3 可控超疏水表面的液滴弹跳 | 第12-13页 |
1.4 超疏水表面的制备方法研究现状 | 第13-19页 |
1.5 存在问题与本文的研究思路 | 第19-20页 |
2 超疏水表面的液滴弹跳相关理论基础 | 第20-27页 |
2.1 固体表面润湿性理论模型 | 第20-22页 |
2.1.1 Young模型 | 第20-21页 |
2.1.2 Wenzel模型 | 第21页 |
2.1.3 Cassie-Baxter模型 | 第21-22页 |
2.2 平整超疏水表面的液滴弹跳模型 | 第22页 |
2.3 超疏水柱状阵列的液滴饼状弹跳模型 | 第22-24页 |
2.4 聚合物柱状阵列加工方法 | 第24-26页 |
2.4.1 热压成型法 | 第25页 |
2.4.2 浇注法 | 第25-26页 |
2.5 本章小结 | 第26-27页 |
3 液滴饼状弹跳表面结构尺寸优化研究 | 第27-43页 |
3.1 超疏水柱状阵列制备 | 第27-31页 |
3.1.1 实验准备 | 第27-28页 |
3.1.2 超疏水柱状阵列加工方法 | 第28-29页 |
3.1.3 超疏水柱状阵列表征 | 第29-31页 |
3.2 超疏水柱状阵列尺寸对液滴弹跳的影响 | 第31-42页 |
3.2.1 柱间距对液滴弹跳的影响 | 第33-35页 |
3.2.2 柱直径对液滴弹跳的影响 | 第35-38页 |
3.2.3 柱高度对液滴弹跳的影响 | 第38-42页 |
3.3 本章小结 | 第42-43页 |
4 液滴饼状弹跳表面的大面积加工方法研究 | 第43-50页 |
4.1 PDMS基体的液滴饼状弹跳表面的大面积加工方法研究 | 第43-46页 |
4.1.1 实验准备 | 第43-44页 |
4.1.2 PDMS超疏水柱状阵列加工方法 | 第44-45页 |
4.1.3 PDMS超疏水柱状阵列表征 | 第45-46页 |
4.1.4 PDMS超疏水柱状阵列的液滴饼状弹跳 | 第46页 |
4.2 PP基体的液滴饼状弹跳表面的大面积加工方法研究 | 第46-49页 |
4.2.1 实验准备 | 第46-47页 |
4.2.2 PP超疏水柱状阵列加工方法 | 第47-48页 |
4.2.3 PP超疏水柱状阵列表征 | 第48页 |
4.2.4 PP超疏水柱状阵列的液滴饼状弹跳 | 第48-49页 |
4.3 本章小结 | 第49-50页 |
5 液滴弹跳的可控性研究 | 第50-59页 |
5.1 形状记忆聚合物基体的超疏水柱状阵列制备 | 第50-52页 |
5.1.1 实验准备 | 第50-51页 |
5.1.2 形状记忆聚合物柱状阵列加工方法 | 第51-52页 |
5.2 形状记忆聚合物基体的超疏水柱状阵列的液滴弹跳控制研究 | 第52-58页 |
5.2.1 液滴弹跳状态控制研究 | 第52-54页 |
5.2.2 液滴弹跳方向控制研究 | 第54-58页 |
5.3 本章小结 | 第58-59页 |
结论 | 第59-60页 |
参考文献 | 第60-65页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第65-66页 |
致谢 | 第66-68页 |