| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-25页 |
| 1.1 引言 | 第10-12页 |
| 1.2 二维材料的合成方法概述 | 第12-17页 |
| 1.2.1 自上而下的方法 | 第12-14页 |
| 1.2.2 自下而上的方法 | 第14-17页 |
| 1.3 二维材料的应用 | 第17-23页 |
| 1.3.1 二维材料在催化方面的应用 | 第17-18页 |
| 1.3.2 二维材料在场效应晶体管(FET)方面的应用 | 第18-20页 |
| 1.3.3 二维材料在光电器件(Optoelectronic devices)方面的应用 | 第20-23页 |
| 1.4 本文的研究出发点与研究内容 | 第23-25页 |
| 第2章 化学气相沉积法生长石墨烯及其电学性能研究 | 第25-49页 |
| 2.1 引言 | 第25页 |
| 2.2 实验原料和装置 | 第25-26页 |
| 2.3 合金基底生长大面积高质量单层石墨烯 | 第26-40页 |
| 2.3.1 研究背景 | 第26-27页 |
| 2.3.2 合金基底生长石墨烯及转移 | 第27-28页 |
| 2.3.3 合金基底生长石墨烯的基本表征 | 第28-31页 |
| 2.3.4 合金基底生长石墨烯的电输运性能 | 第31-34页 |
| 2.3.5 理论计算证实合金基底的优势 | 第34-40页 |
| 2.4 大规模石墨烯的生长及晶界研究 | 第40-48页 |
| 2.4.1 研究背景 | 第40-41页 |
| 2.4.2 大规模石墨烯的生长及转移 | 第41页 |
| 2.4.3 大规模石墨烯的表征 | 第41-43页 |
| 2.4.4 大规模石墨烯的电输运性能 | 第43-46页 |
| 2.4.5 大规模石墨烯的晶界表征 | 第46-48页 |
| 2.5 本章小结 | 第48-49页 |
| 第3章 化学气相输运法生长FePS_3及其OER研究 | 第49-60页 |
| 3.1 引言 | 第49-50页 |
| 3.2 三元FePS_(?)单晶的合成及球磨 | 第50-53页 |
| 3.2.1 三元FePS_(?)单晶的合成 | 第50-51页 |
| 3.2.2 三元FePS_(?)单晶的球磨 | 第51-53页 |
| 3.3 三元FePS_(?)样品球磨前后的表征 | 第53-58页 |
| 3.3.1 三元FePS_(?)样品球磨前后的基本表征 | 第53-56页 |
| 3.3.2 三元FePS_(?)样品球磨前后的OER测试 | 第56-58页 |
| 3.4 理论计算 | 第58-59页 |
| 3.5 本章小结 | 第59-60页 |
| 第4章 总结与展望 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第72页 |
