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丙二酸二芘酯类聚合物LB膜的制备及其光刻性质

摘要第1-9页
Abstract第9-14页
目录第14-17页
第一章 前言第17-28页
   ·概述第17页
   ·光刻原理第17-19页
   ·光刻胶的成膜方式第19-23页
     ·注膜第19页
     ·旋转涂膜(Spin-coating Film)第19-20页
     ·自组装膜(Self-assembled Membranes,SAMs)第20-21页
     ·Langmuir-Blodgett(LB)膜第21-23页
       ·气液界面上单分了膜的形成第21-22页
       ·Langmuir膜的沉积第22-23页
   ·光刻过程中所用的光源第23-25页
   ·光致抗蚀剂第25-26页
   ·课题的提出第26-28页
第二章 实验部分第28-35页
   ·仪器及试剂第28-30页
   ·248NM光致抗蚀剂的合成第30-33页
     ·合成路线第30-31页
     ·烯丙基丙二酸二乙酯的合成第31页
     ·烯丙基丙二酸的合成第31页
     ·烯丙基丙二酰氯的合成第31-32页
     ·烯丙基丙二酸二-2-芘甲酯(DPyMAMA)的合成第32页
     ·(甲基)丙烯酰氯的合成第32页
     ·甲基丙烯酸芘甲酯(PyMMA)的合成第32页
     ·烷基丙烯酰胺合成的一般方法第32-33页
     ·上述单体与甲基丙烯酰胺的共聚的一般方法第33页
   ·基片的处理第33-34页
   ·п-A曲线及LB膜的制备第34-35页
第三章 结果和讨论第35-63页
   ·共聚物(P(DDMA-DPYMAMA)s)[A]性质研究第35-41页
     ·共聚物p(DDMA-DPyMAMA)s[A]的表征第35页
     ·共聚物p(DDMA-DPyMAMA)s(A)成膜性能研究第35-36页
     ·成膜条件的选择与优化第36-37页
     ·Langinuir膜的转移性能研究第37-39页
     ·a3 LB膜的表面形态的表征第39-40页
     ·a3聚合物分子LB膜在基片上的取向第40-41页
   ·共聚物(P(HDMA-DPYMAMA)s)[B]性质研究第41-55页
     ·共聚物(p(HDMA-DPyMAMA)s)[B]的表征第41-42页
     ·共聚物B在气/液界面上的行为研究第42-43页
     ·b2成膜条件的选择与优化第43-44页
     ·b2 Langmuir膜的转移性能研究第44-45页
     ·b2 LB膜表面形貌的表征第45-46页
     ·聚合物b2分子在基片上的取向研究第46-47页
     ·聚合物p(HDMA-DPyMAMA)LB膜光刻性能研究第47-48页
     ·b2 LB膜的抗刻蚀性能研究第48-49页
     ·b2 LB膜光刻机理研究第49-55页
       ·b2 LB膜用248 nm紫外光照射不同时间后的紫外光谱研究第49-50页
       ·b2 LB膜用248 nm紫外光照射不同时间后的红外光谱研究第50-51页
       ·b2 LB膜用248nm紫外光照射不同时间后的荧光光谱研究第51-53页
       ·聚合物b2注膜用248 nm紫外光照前后的热分析研究第53页
       ·b2 LB膜在248 nm紫外光源照射前后GPC的变化第53-54页
       ·248nm紫外曝光下的b2 LB膜可能的光化学反应机理第54-55页
   ·共聚物(P(HDMA-PYMMA)s)[C]性质研究第55-63页
     ·共聚物(p(HDMA-PyMMA)s)[C]的表征第55-56页
     ·共聚物p(HDMA-PyMMA)在气/液界面上的行为第56-57页
     ·共聚物c3成膜条件的选择与优化第57-58页
     ·c3 Langmuir膜的转移性能研究第58-59页
     ·c3 LB膜在基片上的取向研究第59页
     ·c3 LB膜光分解机理研究第59-63页
       ·248 nm紫外光照射下c3 LB膜的紫外光谱变化第59-60页
       ·248 nm紫外光照射下c3 LB膜的荧光光谱变化第60-61页
       ·c3聚合物注膜用248 nm紫外光照前后的热分析第61页
       ·248 nm紫外光源照射下 c3 LB膜的红外光谱变化第61-63页
第四章 结论第63-64页
参考文献第64-69页
附图第69-74页
硕士期间已发表的文章第74-75页
致谢第75页

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