摘要 | 第1-9页 |
Abstract | 第9-14页 |
目录 | 第14-17页 |
第一章 前言 | 第17-28页 |
·概述 | 第17页 |
·光刻原理 | 第17-19页 |
·光刻胶的成膜方式 | 第19-23页 |
·注膜 | 第19页 |
·旋转涂膜(Spin-coating Film) | 第19-20页 |
·自组装膜(Self-assembled Membranes,SAMs) | 第20-21页 |
·Langmuir-Blodgett(LB)膜 | 第21-23页 |
·气液界面上单分了膜的形成 | 第21-22页 |
·Langmuir膜的沉积 | 第22-23页 |
·光刻过程中所用的光源 | 第23-25页 |
·光致抗蚀剂 | 第25-26页 |
·课题的提出 | 第26-28页 |
第二章 实验部分 | 第28-35页 |
·仪器及试剂 | 第28-30页 |
·248NM光致抗蚀剂的合成 | 第30-33页 |
·合成路线 | 第30-31页 |
·烯丙基丙二酸二乙酯的合成 | 第31页 |
·烯丙基丙二酸的合成 | 第31页 |
·烯丙基丙二酰氯的合成 | 第31-32页 |
·烯丙基丙二酸二-2-芘甲酯(DPyMAMA)的合成 | 第32页 |
·(甲基)丙烯酰氯的合成 | 第32页 |
·甲基丙烯酸芘甲酯(PyMMA)的合成 | 第32页 |
·烷基丙烯酰胺合成的一般方法 | 第32-33页 |
·上述单体与甲基丙烯酰胺的共聚的一般方法 | 第33页 |
·基片的处理 | 第33-34页 |
·п-A曲线及LB膜的制备 | 第34-35页 |
第三章 结果和讨论 | 第35-63页 |
·共聚物(P(DDMA-DPYMAMA)s)[A]性质研究 | 第35-41页 |
·共聚物p(DDMA-DPyMAMA)s[A]的表征 | 第35页 |
·共聚物p(DDMA-DPyMAMA)s(A)成膜性能研究 | 第35-36页 |
·成膜条件的选择与优化 | 第36-37页 |
·Langinuir膜的转移性能研究 | 第37-39页 |
·a3 LB膜的表面形态的表征 | 第39-40页 |
·a3聚合物分子LB膜在基片上的取向 | 第40-41页 |
·共聚物(P(HDMA-DPYMAMA)s)[B]性质研究 | 第41-55页 |
·共聚物(p(HDMA-DPyMAMA)s)[B]的表征 | 第41-42页 |
·共聚物B在气/液界面上的行为研究 | 第42-43页 |
·b2成膜条件的选择与优化 | 第43-44页 |
·b2 Langmuir膜的转移性能研究 | 第44-45页 |
·b2 LB膜表面形貌的表征 | 第45-46页 |
·聚合物b2分子在基片上的取向研究 | 第46-47页 |
·聚合物p(HDMA-DPyMAMA)LB膜光刻性能研究 | 第47-48页 |
·b2 LB膜的抗刻蚀性能研究 | 第48-49页 |
·b2 LB膜光刻机理研究 | 第49-55页 |
·b2 LB膜用248 nm紫外光照射不同时间后的紫外光谱研究 | 第49-50页 |
·b2 LB膜用248 nm紫外光照射不同时间后的红外光谱研究 | 第50-51页 |
·b2 LB膜用248nm紫外光照射不同时间后的荧光光谱研究 | 第51-53页 |
·聚合物b2注膜用248 nm紫外光照前后的热分析研究 | 第53页 |
·b2 LB膜在248 nm紫外光源照射前后GPC的变化 | 第53-54页 |
·248nm紫外曝光下的b2 LB膜可能的光化学反应机理 | 第54-55页 |
·共聚物(P(HDMA-PYMMA)s)[C]性质研究 | 第55-63页 |
·共聚物(p(HDMA-PyMMA)s)[C]的表征 | 第55-56页 |
·共聚物p(HDMA-PyMMA)在气/液界面上的行为 | 第56-57页 |
·共聚物c3成膜条件的选择与优化 | 第57-58页 |
·c3 Langmuir膜的转移性能研究 | 第58-59页 |
·c3 LB膜在基片上的取向研究 | 第59页 |
·c3 LB膜光分解机理研究 | 第59-63页 |
·248 nm紫外光照射下c3 LB膜的紫外光谱变化 | 第59-60页 |
·248 nm紫外光照射下c3 LB膜的荧光光谱变化 | 第60-61页 |
·c3聚合物注膜用248 nm紫外光照前后的热分析 | 第61页 |
·248 nm紫外光源照射下 c3 LB膜的红外光谱变化 | 第61-63页 |
第四章 结论 | 第63-64页 |
参考文献 | 第64-69页 |
附图 | 第69-74页 |
硕士期间已发表的文章 | 第74-75页 |
致谢 | 第75页 |