中频非平衡磁控溅射制备TiA1N薄膜及其性能研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 1 绪论 | 第11-26页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·物理气相沉积（PVD）薄膜技术简介 | 第12-14页 |
| ·物理气相沉积（PVD）技术 | 第12页 |
| ·物理气相（PVD）技术的分类和进展 | 第12-13页 |
| ·物理气相（PVD）技术的发展趋势 | 第13-14页 |
| ·TiAlN 薄膜的研究现状 | 第14-23页 |
| ·TiAlN 薄膜的结构、性能及应用 | 第14-17页 |
| ·TiAlN 薄膜的主要制备方法 | 第17-18页 |
| ·工艺参数对 TiAlN 薄膜性能的影响 | 第18-22页 |
| ·TiAlN 薄膜技术的发展 | 第22-23页 |
| ·本论文研究的目的和意义 | 第23-24页 |
| ·本论文研究的内容 | 第24-25页 |
| ·技术路线 | 第25-26页 |
| 2 试验原理及方法 | 第26-41页 |
| ·试验原理 | 第26-31页 |
| ·非平衡磁控溅射原理 | 第26-28页 |
| ·中频孪生靶磁控溅射原理 | 第28-29页 |
| ·磁控溅射离子镀原理 | 第29-31页 |
| ·试验装置 | 第31-33页 |
| ·试验材料及基体试样预处理 | 第33-34页 |
| ·试验材料 | 第33-34页 |
| ·基体试样预处理 | 第34页 |
| ·薄膜性能表征 | 第34-38页 |
| ·XRD 物相分析 | 第34页 |
| ·扫描电镜及 X 射线能谱检测 | 第34-35页 |
| ·薄膜显微硬度测试 | 第35-36页 |
| ·膜-基体结合力测试 | 第36-37页 |
| ·薄膜沉积速率分析 | 第37-38页 |
| ·TiAlN 薄膜的制备 | 第38-41页 |
| ·试验工艺流程 | 第38页 |
| ·试验工艺参数 | 第38-41页 |
| 3 TiAlN 薄膜的物相及形貌分析 | 第41-56页 |
| ·TiAlN 薄膜物相分析 | 第41-45页 |
| ·TiAlN 薄膜表面形貌分析 | 第45-48页 |
| ·TiAlN 薄膜断口形貌分析 | 第48-51页 |
| ·TiAlN 薄膜表面能谱分析 | 第51-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 4 TiAlN 薄膜的性能分析 | 第56-72页 |
| ·TiAlN 薄膜的膜-基结合力分析 | 第56-62页 |
| ·TiAlN 薄膜的显微硬度分析 | 第62-65页 |
| ·TiAlN 薄膜的沉积速率分析 | 第65-68页 |
| ·TiAlN 薄膜的颜色分析 | 第68-70页 |
| ·本章小结 | 第70-72页 |
| 结论 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-77页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及科研成果 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
