| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| ·同步辐射光源 | 第9-13页 |
| ·同步辐射光源的历史及发展 | 第9页 |
| ·同步辐射光源的特性及优点 | 第9-12页 |
| ·同步辐射装置及上海光源 | 第12-13页 |
| ·研究背景、意义及内容 | 第13-17页 |
| ·研究背景及意义 | 第13-15页 |
| ·研究内容 | 第15-17页 |
| 第二章 同步辐射光束线与晶体单色器 | 第17-23页 |
| ·同步辐射光束线与前端区 | 第17-19页 |
| ·同步辐射光束线 | 第17-18页 |
| ·前端区 | 第18-19页 |
| ·同步辐射光束线中的单色器 | 第19-22页 |
| ·单色器介绍及其种类 | 第19-21页 |
| ·双晶单色器 | 第21-22页 |
| ·小结 | 第22-23页 |
| 第三章 晶体单色器分光晶体的加工与检测 | 第23-39页 |
| ·单晶硅晶体的切割技术 | 第23-25页 |
| ·外圆切割 | 第23-24页 |
| ·内圆切割 | 第24页 |
| ·线锯切割 | 第24-25页 |
| ·分光晶体的加工 | 第25-32页 |
| ·单晶硅棒简介 | 第25-26页 |
| ·晶体的粘接 | 第26-27页 |
| ·晶体的定向 | 第27-28页 |
| ·晶体的切割 | 第28-32页 |
| ·分光晶体加工完成后的检测 | 第32-37页 |
| ·粗糙度的检测 | 第33-35页 |
| ·面形的检测 | 第35页 |
| ·摇摆曲线的检测 | 第35-37页 |
| ·小结 | 第37-39页 |
| 第四章 分光晶体冷却结构的模拟与加工 | 第39-55页 |
| ·分光晶体冷却结构的设计 | 第39-42页 |
| ·原分光晶体内部冷却结构介绍 | 第39-41页 |
| ·分光晶体内部冷却结构的重新设计 | 第41-42页 |
| ·两种结构的数值模拟分析 | 第42-50页 |
| ·ANSYS Workbench 有限元分析软件简介 | 第42-43页 |
| ·两种冷却结构模型的有限元分析 | 第43-50页 |
| ·分光晶体新型内部冷却结构的加工、抛光及粘接 | 第50-54页 |
| ·晶体内部新型冷却结构的加工 | 第50-51页 |
| ·上晶体与下晶体的清洗与粘接 | 第51-54页 |
| ·小结 | 第54-55页 |
| 第五章 总结与展望 | 第55-59页 |
| ·论文完成的工作 | 第55-56页 |
| ·创新点 | 第56页 |
| ·展望 | 第56-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 攻读硕士期间发表的文章 | 第63-65页 |
| 致谢 | 第65页 |