| 摘要 | 第1-10页 |
| Abstract | 第10-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-27页 |
| ·铁电材料 | 第13-17页 |
| ·铁电性 | 第14-16页 |
| ·铁电材料的应用 | 第16-17页 |
| ·铁电薄膜材料 | 第17-20页 |
| ·铁电薄膜特性 | 第17-18页 |
| ·薄膜制备技术 | 第18-20页 |
| ·BiFeO_3 | 第20-25页 |
| ·BiFeO_3晶体结构 | 第20-21页 |
| ·BiFeO_3多铁性能及应用 | 第21-22页 |
| ·BiFeO_3研究背景及国内外研究进展 | 第22-25页 |
| ·本课题研究的主要内容 | 第25-27页 |
| 第二章 实验方案设计与研究方法 | 第27-35页 |
| ·实验耗材与设备仪器 | 第27-28页 |
| ·BiFeO_3基薄膜的制备 | 第28-29页 |
| ·前驱体溶液的配制 | 第28页 |
| ·连续层层退火工艺制备薄膜 | 第28-29页 |
| ·BiFeO_3基薄膜结构及性能表征技术 | 第29-35页 |
| ·X 射线衍射 | 第29-30页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第30-31页 |
| ·原子力显微镜 | 第31-32页 |
| ·铁电测试仪 | 第32-35页 |
| 第三章 掺杂离子与底电极材料的选择 | 第35-41页 |
| ·引言 | 第35页 |
| ·掺杂离子的选择 | 第35-37页 |
| ·底电极材料的选择 | 第37-39页 |
| ·小结 | 第39-41页 |
| 第四章 低温成核对 BiFeO_3基薄膜结构和性能的影响 | 第41-55页 |
| ·引言 | 第41页 |
| ·预处理温度对 BiFeO_3薄膜结构和性能的影响 | 第41-49页 |
| ·预处理温度对 BiFeO_3薄膜结构的影响 | 第42-45页 |
| ·预处理温度对 BiFeO_3薄膜形貌的影响 | 第45-46页 |
| ·预处理温度对 BiFeO_3薄膜铁电性能的影响 | 第46-47页 |
| ·预处理温度对 BiFeO_3薄膜漏电性能的影响 | 第47-49页 |
| ·低温成核对 Ti 掺杂 BiFeO_3薄膜结构和性能的影响 | 第49-53页 |
| ·预处理温度对 Ti 掺杂 BiFeO_3薄膜结构的影响 | 第49-50页 |
| ·预处理温度对 Ti 掺杂 BiFeO_3薄膜形貌的影响 | 第50-51页 |
| ·预处理温度对 Ti 掺杂 BiFeO_3薄膜压电性能的影响 | 第51-53页 |
| ·小结 | 第53-55页 |
| 第五章 退火气氛对 Ti 掺杂 BiFeO_3基薄膜结构和性能的影响 | 第55-63页 |
| ·引言 | 第55页 |
| ·退火气氛对 Ti 掺杂 BiFeO_3薄膜结构的影响 | 第55-57页 |
| ·退火气氛对 Ti 掺杂 BiFeO_3薄膜形貌的影响 | 第57-58页 |
| ·退火气氛对 Ti 掺杂 BiFeO_3薄膜压电性能的影响 | 第58-61页 |
| ·钛、锌掺杂 BiFeO_3基薄膜的自发极化 | 第61-62页 |
| ·小结 | 第62-63页 |
| 第六章 锌掺杂对 BiFe_(0.98-y)Ti_(0.02)Zn_yO_3(y=0~3%)薄膜结构和压电性能的影响 | 第63-71页 |
| ·引言 | 第63-64页 |
| ·Zn 掺量对 BiFe_(0.98-y)Ti_(0.02)Zn_yO_3(y=0~3%)薄膜结构的影响 | 第64-65页 |
| ·Zn 掺量对 BiFe_(0.98-y)Ti_(0.02)Zn_yO_3(y=0~3%)薄膜表面形貌的影响 | 第65-66页 |
| ·Zn 掺量对 BiFe_(0.98-y)Ti_(0.02)Zn_yO_3(y=0~3%)薄膜压电性能的影响 | 第66-69页 |
| ·小结 | 第69-71页 |
| 第七章 结论与展望 | 第71-73页 |
| ·主要结论 | 第71-72页 |
| ·主要创新点 | 第72页 |
| ·工作展望 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-81页 |
| 致谢 | 第81-83页 |
| 附录 | 第83-84页 |
| 一、研究生期间发表的学术论文 | 第83页 |
| 二、研究生期间参加的项目 | 第83页 |
| 三、研究生期间申请的专利 | 第83页 |
| 四、研究生期间的获奖情况 | 第83-84页 |
