| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-23页 |
| ·研究背景及意义 | 第11-12页 |
| ·太阳光谱选择性吸收涂层的理论基础 | 第12-16页 |
| ·电磁辐射 | 第12-14页 |
| ·热辐射 | 第12-13页 |
| ·太阳辐射 | 第13-14页 |
| ·太阳能选择性吸收表面 | 第14-16页 |
| ·太阳光谱选择性吸收涂层的类型及其制备方法 | 第16-21页 |
| ·基本类型 | 第16-18页 |
| ·半导体涂层 | 第16页 |
| ·多层干涉滤波涂层 | 第16-17页 |
| ·微不平表面型涂层 | 第17页 |
| ·金属-陶瓷涂层 | 第17-18页 |
| ·反射/吸收型涂层 | 第18页 |
| ·制备方法 | 第18-21页 |
| ·物理气相沉积法 | 第18-19页 |
| ·电化学法 | 第19-20页 |
| ·化学气相沉积法 | 第20页 |
| ·涂料涂覆法 | 第20-21页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第21页 |
| ·本文的研究目的及内容 | 第21-23页 |
| ·研究目的 | 第21页 |
| ·研究内容 | 第21-23页 |
| 第2章 Ni-NiO-Al_2O_3金属陶瓷型选择性吸收涂层的制备与研究 | 第23-43页 |
| ·材料的选择及结构设计 | 第23-24页 |
| ·实验原料与设备 | 第24-26页 |
| ·实验原料 | 第24-25页 |
| ·实验设备 | 第25-26页 |
| ·实验部分 | 第26-31页 |
| ·复合粉末的制备 | 第26-28页 |
| ·基片及其处理 | 第28页 |
| ·Ni-NiO-Al_2O_3涂层的制备 | 第28-29页 |
| ·SnO_2薄膜的制备 | 第29页 |
| ·样品结构与性能的表征 | 第29-31页 |
| ·实验结果与分析 | 第31-41页 |
| ·复合粉末的性能测试与分析 | 第31-33页 |
| ·复合粉末的形貌 | 第31-32页 |
| ·复合粉末的流动性和松装密度 | 第32页 |
| ·复合粉末的差热-热重分析 | 第32-33页 |
| ·涂层的结构表征与性能分析 | 第33-41页 |
| ·涂层的XRD分析 | 第33-34页 |
| ·涂层的能谱分析 | 第34-35页 |
| ·涂层的形貌分析 | 第35-37页 |
| ·涂层厚度对其光学性能的影响 | 第37页 |
| ·不同Ni含量对涂层光学性能的影响 | 第37-38页 |
| ·表面处理对涂层光学性能的影响 | 第38-40页 |
| ·涂层的耐热性能 | 第40-41页 |
| ·本章小结 | 第41-43页 |
| 第3章 Ni-Mo金属型选择性吸收涂层的制备与研究 | 第43-65页 |
| ·材料的选择及结构设计 | 第43-46页 |
| ·实验原料与设备 | 第46-49页 |
| ·实验原料 | 第46-47页 |
| ·实验设备 | 第47-49页 |
| ·实验部分 | 第49-51页 |
| ·复合粉末的制备 | 第49页 |
| ·涂层的制备 | 第49-50页 |
| ·Al_2O_3薄膜的制备 | 第50页 |
| ·样品结构与性能的表征 | 第50-51页 |
| ·实验结果与分析 | 第51-63页 |
| ·复合粉末的形貌分析 | 第51-52页 |
| ·复合粉末的流动性 | 第52-53页 |
| ·复合粉末的TG-DSC分析 | 第53-54页 |
| ·复合粉末的XRD分析 | 第54页 |
| ·复合粉末粒径对涂层选择性吸收性能的影响 | 第54-55页 |
| ·M_(Ni)/M_(Mo)对涂层选择性吸收性能的影响 | 第55-57页 |
| ·涂层的形貌及元素含量分析 | 第57-59页 |
| ·表面研磨处理对涂层选择性吸收性能的影响 | 第59-61页 |
| ·减反层对涂层选择性吸收性能的影响 | 第61-62页 |
| ·涂层的耐热性能 | 第62-63页 |
| ·本章小结 | 第63-65页 |
| 第4章 结论 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第73页 |
