| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-23页 |
| ·前言 | 第12页 |
| ·非线性光学材料 | 第12-13页 |
| ·非线性光学效应及应用 | 第13页 |
| ·非线性光学材料的分类 | 第13-17页 |
| ·无机非线性光学材料 | 第14-16页 |
| ·磷酸盐晶体体系 | 第14-15页 |
| ·碘酸盐晶体体系 | 第15页 |
| ·铌酸盐晶体体系 | 第15页 |
| ·硼酸盐晶体体系 | 第15页 |
| ·其他无机非线性光学材料 | 第15-16页 |
| ·有机非线性光学材料 | 第16页 |
| ·半有机非线性光学材料 | 第16页 |
| ·聚合物非线性光学材料 | 第16-17页 |
| ·研究对象、研究方法的选择 | 第17-21页 |
| ·研究对象的选择 | 第17页 |
| ·拓扑固相聚合 | 第17-18页 |
| ·研究方法的选择 | 第18-21页 |
| ·聚合物刷 | 第21-22页 |
| ·小结及课题的提出 | 第22-23页 |
| 第二章 实验部分 | 第23-27页 |
| ·实验仪器及试剂 | 第23-24页 |
| ·实验仪器 | 第23页 |
| ·实验药品 | 第23-24页 |
| ·试剂的处理 | 第24-25页 |
| ·三乙胺的无水处理 | 第24页 |
| ·甲苯的无水处理 | 第24页 |
| ·二氯甲烷的无水处理 | 第24页 |
| ·氯仿的无水处理 | 第24页 |
| ·基片的亲水处理 | 第24-25页 |
| ·石英和硅基片的亲水处理 | 第24-25页 |
| ·氟化钙基片的亲水处理 | 第25页 |
| ·实验路线的设计 | 第25-26页 |
| ·硝基苯二乙炔衍生物单体的合成 | 第25页 |
| ·硝基苯二乙炔衍生物聚合物刷的合成 | 第25-26页 |
| ·反应机理示意图 | 第26-27页 |
| 第三章 硝基苯二乙炔衍生物单体的合成及其聚合性质研究 | 第27-57页 |
| ·对硝基苯二乙炔衍生物单体的合成 | 第27-29页 |
| ·2-甲基-4-(4-硝基苯)-3-炔-2-丁醇(NL1)的合成 | 第27页 |
| ·4-硝基苯乙炔(NL2)的合成 | 第27页 |
| ·6-(4-硝基苯基)-3,5-己二炔醇(NL3)的合成 | 第27-28页 |
| ·6-(4-硝基苯基)-3,5-己二炔醇丙烯酸酯(NL5)的合成 | 第28页 |
| ·4-(4-硝基苯基)-3-丁炔醇(Ndl)的合成 | 第28-29页 |
| ·4-(4-硝基苯基)-3-丁炔醇丙烯酸酯(Nd2)的合成 | 第29页 |
| ·间硝基苯二乙炔衍生物单体的合成 | 第29-34页 |
| ·2-甲基-3-(3-硝基苯)-3-炔-2-丁醇(NY1)的合成 | 第29-30页 |
| ·3-硝基苯乙炔(NV2)的合成 | 第30页 |
| ·6-(3-硝基苯基)-3,5-己二炔醇(NY3)的合成 | 第30-33页 |
| ·6-(3-硝基苯基)-3,5-己二炔醇丙烯酸酯(NY5)的合成 | 第33页 |
| ·4-(3-硝基苯基)-3-丁炔醇(Nm1)的合成 | 第33-34页 |
| ·4-(3-硝基苯基)-3-丁炔醇丙烯酸酯(Nm2)的合成 | 第34页 |
| ·对硝基苯二乙炔衍生物单体的性质研究 | 第34-47页 |
| ·两系列单体的紫光吸收光谱及荧光发射光谱表征 | 第34-38页 |
| ·2-甲基-4-(4-硝基苯)-3-炔-2-丁醇(NL1)的聚合性质的研究 | 第38-40页 |
| ·4-硝基苯乙炔(NL2)的聚合性质研究 | 第40-42页 |
| ·6-(4-硝基苯基)-3,5-己二炔醇(NL3)的聚合性质研究 | 第42-43页 |
| ·6-(4-硝基苯基)-3,5-己二炔醇丙烯酸酯(NL5)的聚合性质研究 | 第43-45页 |
| ·4-(4-硝基苯基)-3-丁炔醇(Ndl)的聚合性质研究 | 第45-46页 |
| ·4-(4-硝基苯基)-3-丁炔醇丙烯酸酯(Nd2)的聚合性质研究 | 第46-47页 |
| ·间硝基苯二乙炔衍生物单体的性质研究 | 第47-56页 |
| ·2-甲基-3-(3-硝基苯)-3-炔-2-丁醇(NY1)聚合性质的研究 | 第47-49页 |
| ·3-硝基基苯乙炔(NY2)聚合性质的研究 | 第49-50页 |
| ·6-(3-硝基苯基)-3,5-己二炔醇(NY3)聚合性质的研究 | 第50-52页 |
| ·6-(3-硝基苯基)-3,5-己二炔醇丙烯酸酯(NY5)聚合性质的研究 | 第52-53页 |
| ·4-(3-硝基苯基)-3-丁炔醇(Nm1)聚合性质的研究 | 第53-55页 |
| ·4-(3-硝基苯基)-3-丁炔醇丙烯酸酯(Nm2)聚合性质的研究 | 第55-56页 |
| ·小结 | 第56-57页 |
| 第四章 二乙炔衍生物聚合物刷的合成与聚合性质的研究 | 第57-77页 |
| ·二乙炔衍生物聚合物刷的合成 | 第57-59页 |
| ·基片表面羟基化N-1的制备 | 第57页 |
| ·3-氨基丙基三乙氧基硅烷修饰的基片N-2的合成 | 第57页 |
| ·引发剂修饰的基片N-3的合成 | 第57页 |
| ·4-(4-硝基苯基)-3-丁炔醇丙烯酸酯聚合物刷N-4d2的合成 | 第57-58页 |
| ·6-(4-硝基苯基)-3,5-己二炔醇丙烯酸酯聚合物刷N-4L5的合成 | 第58页 |
| ·4-(3-硝基苯基)-3-丁炔醇丙烯酸酯聚合物刷N-4m2的合成 | 第58页 |
| ·6-(3-硝基苯基)-3,5-己二炔醇丙烯酸酯聚合物刷N-4Y5的合成 | 第58-59页 |
| ·二乙炔衍生物聚合物刷的合成过程的表征 | 第59-70页 |
| ·4-(4-硝基苯基)-3-丁炔醇丙烯酸酯聚合物刷N-4d2的合成过程的表征 | 第59-62页 |
| ·聚合物刷N-4d2合成过程水接触角的表征 | 第59-60页 |
| ·聚合物刷N-4d2合成过程紫外-可见吸收光谱的表征 | 第60页 |
| ·聚合物刷N-4d2合成过程表面形貌分析 | 第60-62页 |
| ·6-(4-硝基苯基)-3,5-己二炔醇丙烯酸酯聚合物刷N-4L5合成过程的表征 | 第62-65页 |
| ·聚合物刷N-4L5合成过程水接触角的表征 | 第62-63页 |
| ·聚合物刷N-4L5紫外吸收光谱的表征 | 第63页 |
| ·聚合物刷N-4L5原子力显微镜表征 | 第63-65页 |
| ·4-(3-硝基苯基)-3-丁炔醇丙烯酸酯聚合物刷N-4m2的合成过程的表征 | 第65-67页 |
| ·聚合物刷N-4m2合成过程水接触角的表征 | 第65页 |
| ·聚合物刷N-4m2合成过程紫外吸收光谱表征 | 第65-66页 |
| ·聚合物刷N-4m2合成过程原子力显微镜表征 | 第66-67页 |
| ·6-(3-硝基苯基)-3,5-己二炔醇丙烯酸酯聚合物刷N-4Y5合成过程的表征 | 第67-70页 |
| ·聚合物刷N-4Y5合成过程水接触角的表征 | 第67-68页 |
| ·聚合物刷N-4Y5合成过程中紫外吸收光谱的表征 | 第68页 |
| ·聚合物刷N-4Y5原子力显微镜表征 | 第68-70页 |
| ·二乙炔衍生物聚合物刷聚合性质的研究 | 第70-76页 |
| ·4-(4-硝基苯基)-3-丁炔醇丙烯酸酯聚合物刷N-4d2聚合性质的研究 | 第70-72页 |
| ·6-(4-硝基苯基)-3,5-己二炔醇丙烯酸酯聚合物刷N-4L5聚合性质的研究 | 第72-73页 |
| ·4-(3-硝基苯基)-3-丁炔醇丙烯酸酯聚合物刷N-4m2聚合性质的研究 | 第73-75页 |
| ·6-(3-硝基苯基)-3,5-己二炔醇丙烯酸酯聚合物刷N-4Y5聚合性质的研究 | 第75-76页 |
| ·小结 | 第76-77页 |
| 第五章 结论 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-83页 |
| 附图 | 第83-91页 |
| 致谢 | 第91页 |
