SiO2纳米添加物对聚酰亚胺薄膜电性能的影响
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-19页 |
| ·课题背景 | 第10-11页 |
| ·国内外研究现状 | 第11-17页 |
| ·本文研究内容 | 第17-19页 |
| 第2章 聚酰亚胺复合薄膜的制备方法 | 第19-26页 |
| ·聚酰亚胺复合薄膜的制备方法和性能 | 第19-23页 |
| ·聚酰亚胺复合薄膜的制备方法 | 第19-21页 |
| ·聚酰亚胺复合薄膜的性能 | 第21-23页 |
| ·试验仪器及试验准备 | 第23-25页 |
| ·主要实验原料 | 第23-24页 |
| ·主要试验仪器 | 第24-25页 |
| ·本章小结 | 第25-26页 |
| 第3章 聚酰亚胺/SiO_2纳米复合薄膜的制备 | 第26-38页 |
| ·聚酰亚胺/SiO_2复合薄膜的制备过程 | 第26-28页 |
| ·聚酰胺酸的制备 | 第26-27页 |
| ·聚酰胺酸制备过程中的影响因素 | 第27-28页 |
| ·聚酰胺酸的铺膜、亚胺化及后处理 | 第28-31页 |
| ·聚酰胺酸的铺膜、亚胺化、后处理 | 第28-30页 |
| ·聚酰胺酸的铺膜、亚胺化过程中的影响因素 | 第30-31页 |
| ·聚酰亚胺/SiO_2薄膜表面形貌和结构表征 | 第31-36页 |
| ·表面形貌表征 | 第31-34页 |
| ·结构表征 | 第34-36页 |
| ·本章小结 | 第36-38页 |
| 第4章 聚酰亚胺/SiO_2纳米薄膜电性能测试 | 第38-53页 |
| ·聚酰亚胺/SiO_2薄膜介电常数、介质损耗测试 | 第38-43页 |
| ·测试原理 | 第38-40页 |
| ·测试结果及分析 | 第40-43页 |
| ·聚酰亚胺/SiO_2薄膜击穿强度的测试 | 第43-47页 |
| ·击穿测试理论 | 第43-45页 |
| ·击穿强度测试结果和分析 | 第45-47页 |
| ·聚酰亚胺/SiO_2薄膜耐电晕测试 | 第47-51页 |
| ·耐电晕测试原理 | 第47-48页 |
| ·耐电晕测试结果及分析 | 第48-51页 |
| ·本章小结 | 第51-53页 |
| 结论 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及科研成果 | 第59-60页 |
| 参与的科研项目 | 第60页 |
