| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| 1 绪论 | 第10-17页 |
| ·半导体过渡金属硅化物 | 第10-12页 |
| ·β-FeSi_2的性能 | 第12-14页 |
| ·β-FeSi_2的基本性能 | 第12-13页 |
| ·β-FeSi_2/Si组合的光电性能研究及应用 | 第13页 |
| ·β-FeSi_2热电性能的改善 | 第13-14页 |
| ·非晶态Fe-Si薄膜 | 第14-15页 |
| ·本课题的意义及主要内容 | 第15-17页 |
| 2 合金的成分设计、制备及表征 | 第17-25页 |
| ·成分设计 | 第17-19页 |
| ·样品制备 | 第19-22页 |
| ·块体样品的制备 | 第19-20页 |
| ·薄膜样品的制备 | 第20-21页 |
| ·样品的退火 | 第21-22页 |
| ·样品的表征方法 | 第22-25页 |
| ·成分分析方法 | 第22页 |
| ·微结构分析方法 | 第22-23页 |
| ·光电性能分析方法 | 第23-25页 |
| 3 Fe_4Si_(8-x)N_x(M=C、Sn和Al)系体材料 | 第25-34页 |
| ·Fe-Si-C三元体材料 | 第25-28页 |
| ·Fe-Si-Sn三元体材料 | 第28-30页 |
| ·Fe-Si-Sn-C四元体材料 | 第30-31页 |
| ·Fe-Si-Al三元体材料 | 第31-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 4 Fe-Si-M系三元薄膜 | 第34-66页 |
| ·Fe_3Si_8M_1(M=B、Cr、Ni、Co)型三元薄膜 | 第34-42页 |
| ·薄膜成分分析 | 第34页 |
| ·薄膜退火前后的结构分析 | 第34-39页 |
| ·薄膜退火前后性能的比较 | 第39-41页 |
| ·小结 | 第41-42页 |
| ·Fe_3Cr_1Si_x系三元薄膜 | 第42-56页 |
| ·溅射态Fe_3Cr_1Si_x系薄膜的成分分析 | 第42页 |
| ·溅射态Fe_3Cr_1Si_x系薄膜的结构分析 | 第42-44页 |
| ·溅射态Fe_3Cr_1Si_x系薄膜的性能分析 | 第44-45页 |
| ·小结 | 第45-46页 |
| ·退火后Fe_3Cr_1Si_x系薄膜的结构分析 | 第46-54页 |
| ·退火后Fe_3Cr_1Si_x系薄膜的性能分析 | 第54-56页 |
| ·小结 | 第56页 |
| ·Fe_3B_1Si_x系三元非晶薄膜 | 第56-60页 |
| ·成分分析 | 第56-57页 |
| ·结构分析 | 第57-58页 |
| ·性能分析 | 第58-59页 |
| ·小结 | 第59-60页 |
| ·Fe-Si-Al系三元非晶薄膜 | 第60-66页 |
| ·成分分析 | 第60-61页 |
| ·结构分析 | 第61-63页 |
| ·性能分析 | 第63-65页 |
| ·小结 | 第65-66页 |
| 结论 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-72页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |