| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 1 绪论 | 第10-28页 |
| ·纳米TiO_2光催化材料的发展历程 | 第10-11页 |
| ·自清洁涂层的原理 | 第11-13页 |
| ·光催化性 | 第11-12页 |
| ·亲水性 | 第12-13页 |
| ·纳米TiO_2的制备 | 第13-17页 |
| ·气相法 | 第14-15页 |
| ·液相法 | 第15-16页 |
| ·固相法 | 第16-17页 |
| ·纳米TiO_2薄膜的制备 | 第17-18页 |
| ·浸渍提拉法 | 第17页 |
| ·旋转法 | 第17-18页 |
| ·喷涂法 | 第18页 |
| ·毛细管涂镀法 | 第18页 |
| ·照相凹版涂镀法 | 第18页 |
| ·自清洁性能的影响因素 | 第18-21页 |
| ·TiO_2光催化活性的影响因素 | 第18-20页 |
| ·TiO_2亲水性的影响因素 | 第20-21页 |
| ·自清洁性能的提高 | 第21-23页 |
| ·半导体复合 | 第22页 |
| ·非金属掺杂 | 第22页 |
| ·贵金属沉积 | 第22-23页 |
| ·金属离子掺杂 | 第23页 |
| ·自清洁纳米TiO_2的应用 | 第23-26页 |
| ·自清洁玻璃 | 第24-25页 |
| ·自清洁陶瓷 | 第25页 |
| ·自清洁涂料 | 第25页 |
| ·自清洁纺织品 | 第25-26页 |
| ·论文选题依据、研究内容及创新点 | 第26-28页 |
| ·选题依据 | 第26-27页 |
| ·研究内容 | 第27页 |
| ·创新点 | 第27-28页 |
| 2 实验制备与表征方法 | 第28-36页 |
| ·溶胶的制备 | 第28-30页 |
| ·实验准备 | 第29页 |
| ·实验步骤 | 第29-30页 |
| ·薄膜的制备 | 第30-31页 |
| ·基片的清洗 | 第30-31页 |
| ·薄膜的制备 | 第31页 |
| ·光催化性能测试 | 第31-32页 |
| ·亲水性能测试 | 第32-33页 |
| ·自清洁性能测试 | 第33页 |
| ·溶胶和薄膜的光学性能测试 | 第33页 |
| ·溶胶和薄膜的表征方法 | 第33-35页 |
| ·X-衍射分析(XRD) | 第33-34页 |
| ·薄膜厚度测量 | 第34页 |
| ·TiO_2粉末的差热—失重分析(DSC-TG分析) | 第34页 |
| ·扫描电镜分析(SEM) | 第34页 |
| ·X光电子能谱分析(XPS) | 第34页 |
| ·原子力显微镜分析(AFM) | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 3 溶胶的表征与性能测试 | 第36-48页 |
| ·溶胶的光催化性能 | 第36-40页 |
| ·溶胶的紫外光催化性能 | 第36-38页 |
| ·溶胶的可见光催化性能 | 第38-40页 |
| ·纳米TiO_2粉体的XRD分析 | 第40-42页 |
| ·纳米TiO_2粉体的DSC-TG分析 | 第42-43页 |
| ·纳米TiO_2粉体的XPS分析 | 第43-46页 |
| ·TiO_2溶胶的UV-Vis吸收光谱分析 | 第46-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 4 薄膜的表征与性能测试 | 第48-64页 |
| ·纳米TiO_2薄膜的XRD分析 | 第48页 |
| ·薄膜的SEM表征与分析 | 第48-50页 |
| ·薄膜的AFM表征与分析 | 第50-51页 |
| ·薄膜厚度的测量 | 第51-52页 |
| ·薄膜的光学性能测试 | 第52-54页 |
| ·薄膜的光催化性能 | 第54-55页 |
| ·薄膜层数与可见光催化性能之间的关系 | 第54-55页 |
| ·薄膜的日光催化性能 | 第55页 |
| ·薄膜亲水性研究 | 第55-61页 |
| ·薄膜自清洁性能分析 | 第61-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 5 结论与展望 | 第64-66页 |
| ·结论 | 第64-65页 |
| ·展望 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-72页 |
| 附录 | 第72页 |