| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 1 绪论 | 第8-19页 |
| ·光催化氧化研究基本概况 | 第8-12页 |
| ·光催化技术的发展历程 | 第8-9页 |
| ·半导体光催化的基本工作原理 | 第9-11页 |
| ·半导体光催化剂的应用 | 第11-12页 |
| ·纳米氧化亚铜颗粒的基本研究 | 第12-14页 |
| ·氧化亚铜的基本性质 | 第12-13页 |
| ·氧化亚铜的常见形貌 | 第13页 |
| ·氧化亚铜的应用 | 第13-14页 |
| ·磁载材料在光催化方面的应用 | 第14页 |
| ·石墨烯半导体光催化剂的研究 | 第14-16页 |
| ·石墨烯的基本性质 | 第14-15页 |
| ·石墨烯半导体光催化剂复合材料的研究 | 第15-16页 |
| ·本课题的研究背景及主要研究内容 | 第16-19页 |
| ·研究背景 | 第16-17页 |
| ·主要研究内容 | 第17-19页 |
| 2 Fe_3O_4/RGO复合材料的制备及表征 | 第19-36页 |
| ·引言 | 第19-20页 |
| ·实验部分 | 第20-23页 |
| ·实验试剂及主要仪器 | 第20-21页 |
| ·氧化石墨的还原 | 第21-22页 |
| ·溶剂热法制备石墨烯磁性复合材料 | 第22-23页 |
| ·实验分析表征手段 | 第23-24页 |
| ·实验结果与讨论 | 第24-35页 |
| ·透射电子显微镜分析(TEM) | 第24-29页 |
| ·Fe_3O_4/RGO复合材料的可能形成机理 | 第29-30页 |
| ·X射线衍射表征(XRD) | 第30-31页 |
| ·傅立叶红外光谱图(FTIR) | 第31-33页 |
| ·磁性能分析(VSM) | 第33-34页 |
| ·热失重分析(TG) | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 3 Cu_2O/RGO复合材料的制备及催化性能初步研究 | 第36-55页 |
| ·引言 | 第36-37页 |
| ·实验部分 | 第37-38页 |
| ·实验试剂及主要仪器 | 第37-38页 |
| ·实验分析表征手段 | 第38页 |
| ·Cu_2O/RGO复合材料的制备 | 第38-39页 |
| ·氧化石墨的还原 | 第38-39页 |
| ·室温液相还原制备氧化亚铜 | 第39页 |
| ·溶剂热法制备Cu_2O/RGO复合材料 | 第39页 |
| ·实验结果及讨论 | 第39-53页 |
| ·液相还原制备Cu_2O微球分析 | 第39-41页 |
| ·溶剂热反应制备Cu_2O/RGO复合材料 | 第41-43页 |
| ·不同还原剂对Cu_2O/RGO复合材料的影响 | 第43-44页 |
| ·反应温度对Cu_2O/RGO复合材料的影响 | 第44-46页 |
| ·反应时间对Cu_2O/RGO复合材料的影响 | 第46-47页 |
| ·表面活性剂对Cu_2O/RGO复合材料形貌的影响 | 第47-49页 |
| ·傅立叶红外光谱图(FTIR) | 第49页 |
| ·Cu_2O/RGO复合材料的光催化性能的初步研究 | 第49-53页 |
| ·本章小结 | 第53-55页 |
| 4 Fe_3O_4/Cu_2O/RGO磁性光催化剂的制备及催化性能初步探究 | 第55-65页 |
| ·引言 | 第55页 |
| ·实验部分 | 第55-57页 |
| ·实验试剂及主要仪器 | 第55-56页 |
| ·实验步骤 | 第56-57页 |
| ·结果与讨论 | 第57-64页 |
| ·透射电子显微镜分析(TEM) | 第57-58页 |
| ·X射线衍射表征(XRD) | 第58-59页 |
| ·磁性能分析(VSM) | 第59页 |
| ·光催化反应探究 | 第59-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 5 全文结论和创新点 | 第65-67页 |
| ·全文结论 | 第65-66页 |
| ·创新点 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-75页 |
