| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 1 前言 | 第9-10页 |
| 2 文献综述 | 第10-25页 |
| ·古陶瓷科技研究综述 | 第10-13页 |
| ·古陶瓷科技研究的意义 | 第10-11页 |
| ·古陶瓷科技研究现状 | 第11-13页 |
| ·元素组成分析在古陶瓷科技研究中的作用 | 第13页 |
| ·常用古陶瓷元素组成分析技术简介 | 第13-22页 |
| ·化学分析法 | 第13-14页 |
| ·X 射线光谱分析法 | 第14-17页 |
| ·原子光谱分析法 | 第17-19页 |
| ·中子活化分析 | 第19-20页 |
| ·其他成分分析方法 | 第20-21页 |
| ·本节小结 | 第21-22页 |
| ·古陶瓷元素组成分析特点 | 第22-24页 |
| ·古陶瓷自身的多样性 | 第22页 |
| ·古陶瓷元素组成分析测试的需求 | 第22-23页 |
| ·古陶瓷元素组成分析测试常见问题 | 第23-24页 |
| ·本课题主要研究内容、目的及意义 | 第24-25页 |
| 3 古陶瓷完整器的无损分析 | 第25-45页 |
| ·EDXRF 在古陶瓷无损分析中的应用 | 第25页 |
| ·古陶瓷瓷釉标准参考物质的研制 | 第25-36页 |
| ·标准参考物质必要性研究 | 第25-28页 |
| ·釉标准参考物质的研制 | 第28-34页 |
| ·标准参考物质均匀性检测 | 第34-36页 |
| ·EDXRF 无损测试分析 | 第36-44页 |
| ·实验样品 | 第36-37页 |
| ·EDXRF 测试条件的设置 | 第37-43页 |
| ·测试结果 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 4 严重非均匀古陶瓷的元素组成分析 | 第45-57页 |
| ·实验样品 | 第45-46页 |
| ·实验设备与测试方法 | 第46-53页 |
| ·化学分析法 | 第46-47页 |
| ·能量色散 X 射线荧光法 | 第47-53页 |
| ·化学分析法与 EDXRF 方法对比分析 | 第53-54页 |
| ·制样 | 第53页 |
| ·数据结果的准确性 | 第53-54页 |
| ·其他方面因素 | 第54页 |
| ·小结 | 第54页 |
| ·化学分析方法的参数设置 | 第54-56页 |
| ·最小取样量 | 第54-55页 |
| ·各元素分析方法 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 5 高温釉及釉下彩绘瓷的元素组成分析 | 第57-67页 |
| ·实验样品 | 第57-58页 |
| ·实验设备与测试方法 | 第58-60页 |
| ·能量色散 X 射线荧光光谱法 | 第59页 |
| ·波长色散 X 射线荧光光谱法 | 第59-60页 |
| ·EDXRF 方法与 WDXRF 方法对比分析 | 第60-64页 |
| ·无损性 | 第60-61页 |
| ·微区分析 | 第61-62页 |
| ·数据准确性 | 第62-64页 |
| ·可重复性 | 第64页 |
| ·其他方面因素 | 第64页 |
| ·小结 | 第64页 |
| ·XRF 方法的参数设置 | 第64-66页 |
| ·样品处理 | 第65页 |
| ·分光晶体 | 第65-66页 |
| ·测试电压、电流 | 第66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 6 低温釉古陶瓷的元素组成分析 | 第67-75页 |
| ·实验样品 | 第67页 |
| ·实验设备与测试方法 | 第67-70页 |
| ·电感耦合等离子体原子发射光谱 | 第68-69页 |
| ·能量色散 X 射线荧光光谱 | 第69-70页 |
| ·ICP-AES 方法与 EDXRF 方法对比分析 | 第70-72页 |
| ·制样 | 第70页 |
| ·数据结果准确性 | 第70-71页 |
| ·其它方面因素 | 第71页 |
| ·小结 | 第71-72页 |
| ·ICP-AES 的参数设置 | 第72-74页 |
| ·样品的分解 | 第72页 |
| ·标准工作曲线的建立 | 第72-73页 |
| ·ICP-AES 分析线的选择 | 第73-74页 |
| ·本章小结 | 第74-75页 |
| 7 结论 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-81页 |
| 附录 | 第81页 |