摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-9页 |
1 绪论 | 第9-15页 |
·有机缓蚀剂 | 第9-10页 |
·有机绥蚀剂作用原理 | 第9页 |
·聚合物缓蚀剂 | 第9-10页 |
·有机缓蚀剂复配研究 | 第10页 |
·有机缓蚀剂性能测试 | 第10页 |
·标记聚合物 | 第10-13页 |
·标记聚合物的应用 | 第11页 |
·传统的聚合物监测技术的局限性 | 第11页 |
·荧光标记聚合物的发展 | 第11-12页 |
·荧光标记聚合物的应用(絮凝剂) | 第12-13页 |
·本论文研究内容 | 第13-15页 |
2 含香豆素类基团的季铵盐盐酸酸洗缓蚀剂的合成与性能研究 | 第15-54页 |
·概述 | 第15页 |
·主要原料与仪器 | 第15页 |
·合成实验 | 第15-19页 |
·合成路线 | 第16-17页 |
·合成步骤 | 第17-18页 |
·合成机理推断 | 第18-19页 |
·产物鉴定及表征 | 第19-27页 |
·DMMPAB的结构表征 | 第19-22页 |
·DMMEAB的结构表征 | 第22-24页 |
·DMAPAB的结构表征 | 第24-27页 |
·合成最佳条件确定 | 第27-29页 |
·反应物摩尔比的选择 | 第27页 |
·反应溶剂的选择 | 第27-28页 |
·反应温度的选择 | 第28页 |
·反应时间 | 第28-29页 |
·是否加阻聚剂 | 第29页 |
·最佳工艺的选择 | 第29页 |
·季铵盐单体性能研究 | 第29-52页 |
·性能研究 | 第29-31页 |
·讨论与分析 | 第31-52页 |
·本章小结 | 第52-54页 |
3 荧光标记水溶性低聚物缓蚀阻垢剂的合成与性能研究 | 第54-84页 |
·概述 | 第54页 |
·主要原料与仪器 | 第54页 |
·合成实验 | 第54-57页 |
·合成路线 | 第54-55页 |
·实验步骤 | 第55-56页 |
·合成机理推断 | 第56-57页 |
·产品基本物理特性及表征 | 第57-61页 |
·分析检测 | 第57-58页 |
·结果讨论与分析 | 第58-61页 |
·最佳合成条件确定 | 第61-64页 |
·反应物配比对极限粘数的影响 | 第61-62页 |
·引发剂量对极限粘数的影响 | 第62页 |
·温度对极限粘数的影响 | 第62-63页 |
·分子量调节剂的用量对极限粘数的影响 | 第63页 |
·反应时间对极限粘数的影响 | 第63-64页 |
·最佳工艺条件的选择 | 第64页 |
·性能研究 | 第64-82页 |
·性能测试实验 | 第64-65页 |
·结果及分析 | 第65-82页 |
·本章小结 | 第82-84页 |
4 香豆素类荧光标记水溶性低聚物与植物缓蚀剂(竹叶提取物)的复配研究 | 第84-92页 |
·概述 | 第84页 |
·实验部分 | 第84-90页 |
·主要原料与仪器 | 第84页 |
·植物缓蚀剂提取 | 第84页 |
·缓蚀实验 | 第84-90页 |
·小结 | 第90-92页 |
5 结论与展望 | 第92-94页 |
·本论文研究结论 | 第92-93页 |
·展望 | 第93-94页 |
致谢 | 第94-95页 |
参考文献 | 第95-100页 |
附录 | 第100页 |