| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 第一章 概述 | 第9-23页 |
| ·超导材料简史 | 第9-10页 |
| ·高温超导材料的应用现状 | 第10-12页 |
| ·高温超导带材的发展过程 | 第12-15页 |
| ·实用化要求 | 第12-13页 |
| ·第一代高温超导带材应用现状 | 第13-14页 |
| ·第二代高温超导带材应用现状 | 第14-15页 |
| ·钇系高温超导带材的制备 | 第15-20页 |
| ·金属基带的选择 | 第16-17页 |
| ·过渡层的选择 | 第17-18页 |
| ·阻挡层薄膜的制备方法 | 第18-19页 |
| ·超导层的制备方法 | 第19-20页 |
| ·过渡层薄膜和 YBCO 带材研究现状 | 第20-22页 |
| ·本论文的选题构思和探究方案 | 第22-23页 |
| 第二章 实验方法和表征 | 第23-35页 |
| ·直流磁控反应溅射 | 第23-25页 |
| ·射频磁控溅射 | 第25页 |
| ·实验装置 | 第25-28页 |
| ·制备阻挡层设备 | 第25-26页 |
| ·制备模板层的设备 | 第26-27页 |
| ·制备超导层的设备 | 第27-28页 |
| ·分析与测试设备介绍 | 第28-33页 |
| ·X 射线衍射设备—XRD | 第28-30页 |
| ·原子力显微镜—AFM | 第30-31页 |
| ·扫描电子显微镜—SEM | 第31-32页 |
| ·针触式台阶仪 | 第32-33页 |
| ·“Leipzig”Jc测试仪 | 第33页 |
| ·本章小结 | 第33-35页 |
| 第三章 钇稳氧化锆阻挡层的快速制备研究 | 第35-51页 |
| ·生长温度对 YSZ 薄膜的影响 | 第35-43页 |
| ·生长温度对 YSZ 薄膜的结构影响 | 第35-39页 |
| ·生长温度对 YSZ 薄膜的形貌影响 | 第39-41页 |
| ·YSZ 薄膜生长温度的最优参数讨论 | 第41-43页 |
| ·卷绕速度对 YSZ 薄膜的影响 | 第43-48页 |
| ·卷绕速度对 YSZ 薄膜的厚度影响 | 第43-44页 |
| ·卷绕速度对 YSZ 薄膜的结构影响 | 第44-47页 |
| ·卷绕速度对 YSZ 薄膜的形貌影响 | 第47-48页 |
| ·YSZ 长带材研究 | 第48-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第四章 YSZ 薄膜对模板层和超导层的影响 | 第51-60页 |
| ·YSZ 阻挡层薄膜对 CeO2模板层薄膜的影响 | 第51-56页 |
| ·YSZ 阻挡层薄膜对 CeO2模板层薄膜结构的影响 | 第51-54页 |
| ·YSZ 阻挡层薄膜对 CeO2模板层薄膜形貌的影响 | 第54-56页 |
| ·YSZ 阻挡层薄膜对 YBCO 超导层薄膜的影响 | 第56-59页 |
| ·YSZ 阻挡层薄膜对 YBCO 超导层薄膜结构的影响 | 第56-58页 |
| ·YSZ 阻挡层薄膜对 YBCO 超导层薄膜形貌的影响 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第五章 结论 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-65页 |
| 研究生阶段取得成果 | 第65-66页 |
