摘要 | 第1-4页 |
ABSTRACT | 第4-7页 |
1 绪论 | 第7-21页 |
·引言 | 第7页 |
·低辐射镀膜玻璃 | 第7-17页 |
·低辐射玻璃的节能原理 | 第7-9页 |
·低辐射玻璃的性能特点 | 第9-11页 |
·低辐射玻璃的分类 | 第11-12页 |
·低辐射玻璃的生产工艺 | 第12-16页 |
·低辐射玻璃的国内外发展现状与存在问题 | 第16-17页 |
·氮化铝钛薄膜 | 第17-19页 |
·氮化铝钛薄膜的结构与特性 | 第17-18页 |
·氮化铝钛薄膜的应用 | 第18页 |
·氮化铝钛薄膜的研究进展 | 第18-19页 |
·本课题的研究目的及意义 | 第19-21页 |
2 实验 | 第21-31页 |
·实验材料和制备方法 | 第21-22页 |
·实验装置 | 第22-23页 |
·试样的制备 | 第23-24页 |
·制备工艺 | 第23页 |
·薄膜的制备 | 第23-24页 |
·实验方案的确定 | 第24-26页 |
·氮化铝钛薄膜的实验方案 | 第24页 |
·TiAlN/Ag/ TiAlN 薄膜的实验方案 | 第24-26页 |
·薄膜的性能检测 | 第26-31页 |
3 氮化铝钛薄膜的制备及性能研究 | 第31-47页 |
·制备工艺参数对氮化铝钛薄膜光学性能的影响 | 第31-39页 |
·Ti 靶溅射功率对氮化钛薄膜光学性能的影响 | 第31-33页 |
·Al 靶溅射功率对氮化钛薄膜光学性能的影响 | 第33-35页 |
·N_2流量对氮化钛薄膜光学性能的影响 | 第35-36页 |
·溅射时间对氮化钛薄膜光学性能的影响 | 第36-39页 |
·氮化铝钛薄膜的远红外反射率 | 第39-40页 |
·氮化铝钛薄膜的成分和结构分析 | 第40-45页 |
·氮化铝钛薄膜的结构分析 | 第40-41页 |
·氮化铝钛薄膜的表面形貌分析 | 第41-42页 |
·氮化铝钛薄膜的 X 射线光电子能谱分析(XPS) | 第42-45页 |
·本章小结 | 第45-47页 |
4 TiAlN/Ag/TiAlN 低辐射薄膜的制备及性能研究 | 第47-77页 |
·制备工艺参数对 TiAlN/Ag/TiAlN 低辐射薄膜光学性能的影响 | 第47-62页 |
·银膜溅射功率对 TiAlN/Ag/TiAlN 低辐射薄膜光学性能的影响 | 第47-48页 |
·银膜溅射时间对 TiAlN/Ag/TiAlN 低辐射薄膜光学性能的影响 | 第48-50页 |
·外层 TiAlN 中 Ti 靶功率对 TiAlN/Ag/TiAlN 低辐射薄膜光学性能的影响 | 第50-52页 |
·外层 TiAlN 中 Al 靶功率对 TiAlN/Ag/TiAlN 低辐射薄膜光学性能的影响 | 第52-53页 |
·外层 TiAlN 中氮气流量对 TiAlN/Ag/TiAlN 低辐射薄膜光学性能的影响 | 第53-54页 |
·外层 TiAlN 中溅射时间对 TiAlN/Ag/TiAlN 低辐射薄膜光学性能的影响 | 第54-56页 |
·内层 TiAlN 中 Ti 靶功率对 TiAlN/Ag/TiAlN 低辐射薄膜光学性能的影响 | 第56-57页 |
·内层 TiAlN 中 Al 靶功率对 TiAlN/Ag/TiAlN 低辐射薄膜光学性能的影响 | 第57-59页 |
·内层 TiAlN 中氮气流量对 TiAlN/Ag/TiAlN 低辐射薄膜光学性能的影响 | 第59-60页 |
·内层 TiAlN 中溅射时间对 TiAlN/Ag/TiAlN 低辐射薄膜光学性能的影响 | 第60-62页 |
·TiAlN/Ag/TiAlN 低辐射薄膜化学稳定性 | 第62-70页 |
·TiAlN/Ag/TiAlN 低辐射薄膜耐硫化氢气体溶液腐蚀性能 | 第62-67页 |
·TiAlN/Ag/TiAlN 低辐射薄膜耐氯化钠溶液的腐蚀 | 第67-70页 |
·TiAlN/Ag/TiAlN 低辐射薄膜的远红外反射率 | 第70-71页 |
·TiAlN/Ag/TiAlN/Ag/TiAlN 低辐射薄膜辐射薄膜的成分和结构分析 | 第71-76页 |
·TiAlN/Ag/TiAlN 低辐射薄膜的结构分析 | 第71-72页 |
·TiAlN/Ag/TiAlN 低辐射薄膜的表面形貌分析 | 第72-73页 |
·TiAlN/Ag/TiAlN 低辐射薄膜的 X 射线光电子能谱分析 | 第73-76页 |
·本章小结 | 第76-77页 |
5 结论 | 第77-79页 |
致谢 | 第79-81页 |
参考文献 | 第81-85页 |
附录 | 第85页 |
作者在攻读学位期间发表的论文目录 | 第85页 |