| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-19页 |
| ·引言 | 第7页 |
| ·(Ti,Al)N薄膜的结构、性能及其应用 | 第7-10页 |
| ·Ti-Al-N体系的晶体结构及性能特点 | 第7-10页 |
| ·(Ti,Al)N薄膜的主要应用 | 第10页 |
| ·PVD技术的原理及特点 | 第10-14页 |
| ·多弧离子镀技术 | 第10-12页 |
| ·空心阴极离子镀技术 | 第12页 |
| ·溅射技术 | 第12-13页 |
| ·离子束辅助沉积技术 | 第13-14页 |
| ·薄膜的生长 | 第14-16页 |
| ·薄膜的形核与生长 | 第14-15页 |
| ·薄膜的形核与生长的物理过程 | 第15页 |
| ·薄膜的生长过程与薄膜结构 | 第15-16页 |
| ·PVD技术在发展过程中存在的问题 | 第16-17页 |
| ·选题意义、主要研究内容及研究路线 | 第17-19页 |
| ·选题意义 | 第17页 |
| ·主要研究内容及研究路线 | 第17-19页 |
| 第二章 (Ti,Al)N薄膜的制备与表征 | 第19-26页 |
| ·实验设备及制膜原理 | 第19-20页 |
| ·实验设备的构造及特点 | 第19-20页 |
| ·制膜原理 | 第20页 |
| ·薄膜的制备 | 第20-23页 |
| ·基体材料的选择与加工 | 第20页 |
| ·试样的预处理工艺 | 第20-21页 |
| ·(Ti,Al)N薄膜的制备工艺 | 第21-23页 |
| ·(Ti,Al)N薄膜的分析测试方法 | 第23-26页 |
| ·相组成的测定 | 第23页 |
| ·成分的测定 | 第23页 |
| ·微观形貌的观测 | 第23页 |
| ·膜/基结合力的评价 | 第23-24页 |
| ·薄膜硬度的评价 | 第24-25页 |
| ·抗摩擦磨损性能的评价 | 第25-26页 |
| 第三章 (Ti,Al)N薄膜结构、成分及表面形貌的研究分析 | 第26-37页 |
| ·薄膜的成分及相组成分析 | 第26-31页 |
| ·不同空心阴极电流作用下的相组成分析 | 第26-28页 |
| ·不同脉冲偏压模式下的相组成分析 | 第28-30页 |
| ·(Ti,Al)N薄膜的成分分析 | 第30-31页 |
| ·薄膜表面形貌的研究分析 | 第31-36页 |
| ·不同脉冲偏压模式作用下的薄膜表面形貌对比分析 | 第31-35页 |
| ·空心阴极电子束对(Ti,Al)N薄膜表面形貌的影响 | 第35-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第四章 (Ti,Al)N薄膜抗摩擦磨损性能及力学性能的研究分析 | 第37-49页 |
| ·(Ti,Al)N薄膜抗摩擦磨损性能的研究分析 | 第37-41页 |
| ·空心阴极电子束对(Ti,Al)N薄膜抗摩擦磨损性能的影响及影响机理 | 第37-39页 |
| ·脉冲偏压模式对薄膜抗摩擦磨损性能的影响及影响机理 | 第39-41页 |
| ·(Ti,Al)N薄膜硬度的研究分析 | 第41-45页 |
| ·空心阴极电子束对薄膜硬度的影响及影响机理 | 第42-43页 |
| ·脉冲偏压模式对薄膜硬度的影响及影响机理 | 第43-45页 |
| ·膜层/基体间结合力的研究分析 | 第45-48页 |
| ·空心阴极电子束的影响及影响机理 | 第45-46页 |
| ·脉冲偏压的影响及影响机理 | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第五章 结论 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-57页 |
| 作者简介 | 第57页 |
| 攻读硕士学位期间研究成果 | 第57-58页 |
