| 摘要 | 第1-9页 |
| ABSTRACT | 第9-15页 |
| 第一章 绪论 | 第15-39页 |
| ·引言 | 第15-16页 |
| ·碳纳米管简介 | 第16-20页 |
| ·碳纳米管的基本结构 | 第16-18页 |
| ·碳纳米管的发现历史和制备方法 | 第18-19页 |
| ·碳纳米管的性能和应用 | 第19-20页 |
| ·碳纳米管场发射介绍 | 第20-29页 |
| ·电子发射及其机理 | 第20-22页 |
| ·场致发射材料 | 第22-25页 |
| ·碳纳米管场发射阴极的应用 | 第25-29页 |
| ·现有的碳纳米管植入金属表面的方法 | 第29-36页 |
| ·本课题的研究意义和研究内容 | 第36-39页 |
| ·研究意义 | 第36-37页 |
| ·研究内容 | 第37-39页 |
| 第二章 碳纳米管植入金属电极表面的垂直植布工艺研究 | 第39-63页 |
| ·聚合物基碳纳米管垂直植布技术概述 | 第39-41页 |
| ·聚合物基碳纳米管垂直植布技术具体过程 | 第41-59页 |
| ·聚合物介质的选择 | 第41-43页 |
| ·碳纳米管种类的选择 | 第43-45页 |
| ·CNT/光刻胶复合薄膜制备工艺研究 | 第45-52页 |
| ·CNT/光刻胶复合薄膜后处理 | 第52-57页 |
| ·制备场致发射阴极 | 第57-59页 |
| ·植布工艺优化-反面垂直植布工艺 | 第59-62页 |
| 本章小结 | 第62-63页 |
| 第三章 植布法在场发射阴极上的应用及其性能研究 | 第63-77页 |
| ·场发射性能测试装置 | 第63-64页 |
| ·植布法单元工艺在场发射阴极制备上的最优化应用 | 第64-75页 |
| ·球磨工艺对场致发射阴极样品的影响 | 第64-67页 |
| ·刻蚀工艺对场致发射阴极性能的影响 | 第67-70页 |
| ·除气工艺对场致发射阴极样品的影响 | 第70页 |
| ·CNT/光刻胶配比对场致发射阴极样品的影响 | 第70-73页 |
| ·去胶工艺对场致发射阴极样品的影响 | 第73-75页 |
| ·碳纳米管植布在金属基表面的特效图 | 第75页 |
| ·本章小结 | 第75-77页 |
| 第四章 碳纳米管双端桥接金属敏感电极的制备及其性能 | 第77-86页 |
| ·引言 | 第77页 |
| ·碳纳米管双端桥接金属敏感电极的制备 | 第77-81页 |
| ·聚酰亚胺基碳纳米管双端桥接金属电极的制备工艺 | 第77-79页 |
| ·光刻胶基碳纳米管双端桥接金属电极的制备工艺 | 第79页 |
| ·利用碳纳米管分散液制备双端桥接金属电极的制备工艺 | 第79-81页 |
| ·碳纳米管双端桥接金属电极的性能 | 第81-85页 |
| ·扫描电镜图片 | 第81-82页 |
| ·器件测试 | 第82-85页 |
| ·本章小结 | 第85-86页 |
| 第五章 总结与展望 | 第86-89页 |
| ·主要研究内容和结论 | 第86-87页 |
| ·主要创新点 | 第87-88页 |
| ·展望与下一步研究设想 | 第88-89页 |
| 参考文献 | 第89-94页 |
| 致谢 | 第94-95页 |
| 攻读硕士学位期间已发表或录用的论文 | 第95页 |
