| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-23页 |
| ·课题背景 | 第8页 |
| ·微弧氧化技术的特点和基本原理 | 第8-10页 |
| ·微弧氧化的理化过程 | 第9-10页 |
| ·微弧氧化技术的发展和现状 | 第10-12页 |
| ·微弧氧化技术的氧化机理 | 第12-20页 |
| ·热作用机理和机械作用机理 | 第12-13页 |
| ·电子雪崩机理 | 第13页 |
| ·电子雪崩的理论模型 | 第13-20页 |
| ·微弧氧化技术在钛及钛合金的应用 | 第20-22页 |
| ·钛合金微弧氧化在生物医学方面的应用 | 第20-21页 |
| ·钛合金微弧氧化在航天和工业上的应用 | 第21-22页 |
| ·本文研究内容 | 第22-23页 |
| 第2章 实验材料及研究方法 | 第23-26页 |
| ·实验主要原材料 | 第23页 |
| ·微弧氧化实验工艺参数和电解液成分设计 | 第23-25页 |
| ·实验装置和微弧氧化电解液的确定 | 第23-24页 |
| ·微弧氧化电参数的设计 | 第24-25页 |
| ·涂层结构和成分分析 | 第25页 |
| ·涂层摩擦性能测试 | 第25-26页 |
| 第3章 NaAlO_2电解液中TB2 微弧氧化陶瓷层 | 第26-42页 |
| ·引言 | 第26页 |
| ·陶瓷层形貌分析 | 第26-32页 |
| ·陶瓷层的典型形貌 | 第26-27页 |
| ·不同氧化时间的陶瓷层形貌 | 第27-28页 |
| ·不同氧化时间陶瓷层相分析 | 第28-29页 |
| ·不同氧化电压下陶瓷层形貌 | 第29-30页 |
| ·NaAlO_2中微弧氧化陶瓷层能谱分析 | 第30-32页 |
| ·电参数对微弧氧化陶瓷层影响 | 第32-39页 |
| ·不同电流强度对陶瓷层形貌影响 | 第32-34页 |
| ·不同脉冲频率陶瓷层形貌 | 第34-37页 |
| ·不同脉冲宽度制备的陶瓷层的形貌 | 第37-39页 |
| ·添加剂对微弧氧化陶瓷层表面形貌的影响 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第4章 Na_2SiO_3-(NaPO_3)_6电解液中TB2 微弧氧化 陶瓷层组织形貌 | 第42-54页 |
| ·引言 | 第42页 |
| ·Na_2SiO_3-(NaPO_3)_6电解液中陶瓷层形貌分析 | 第42-44页 |
| ·Na_2SiO_3-(NaPO_3)_6中陶瓷层的典型形貌 | 第42-43页 |
| ·Na_2SiO_3-(NaPO_3)_6中微弧氧化陶瓷层能谱分析 | 第43-44页 |
| ·电参数对微弧氧化陶瓷层影响 | 第44-53页 |
| ·不同电流强度陶瓷层形貌组织 | 第44-47页 |
| ·不同脉冲频率陶瓷层组织形貌 | 第47-50页 |
| ·不同脉冲宽度陶瓷层组织形貌 | 第50-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第5章 TB2 微弧氧化陶瓷层摩擦磨损性能 | 第54-62页 |
| ·引言 | 第54页 |
| ·TB2 合金基体的滑动摩擦特性 | 第54-55页 |
| ·TB2 合金微弧氧化陶瓷层滑动摩擦特性 | 第55-57页 |
| ·抛光后TB2 合金微弧氧化陶瓷层的滑动摩擦性能 | 第57-59页 |
| ·抛光后微弧氧化陶瓷层表面形貌 | 第57-58页 |
| ·抛光后微弧氧化陶瓷层滑动摩擦特性 | 第58-59页 |
| ·微弧氧化陶瓷层润滑摩擦特性 | 第59-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
