直接法合成三乙氧基硅烷工艺的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-18页 |
| ·课题背景 | 第9-10页 |
| ·烷氧基硅烷的研究及发展 | 第10-14页 |
| ·概述 | 第10页 |
| ·烷氧基硅烷的合成方法 | 第10-12页 |
| ·烷氧基硅烷的应用 | 第12-14页 |
| ·直接法合成三乙氧基硅烷概述 | 第14-16页 |
| ·反应所用的原料 | 第14-15页 |
| ·催化剂及预处理 | 第15-16页 |
| ·课题及研究内容 | 第16-18页 |
| ·催化剂的选择 | 第17页 |
| ·三乙氧基硅烷合成条件的优化 | 第17-18页 |
| 第2章 实验材料与实验方法 | 第18-29页 |
| ·试剂与仪器 | 第18-19页 |
| ·实验药品 | 第18页 |
| ·主要仪器 | 第18-19页 |
| ·实验方法 | 第19-21页 |
| ·实验装置 | 第19-20页 |
| ·工艺流程图 | 第20-21页 |
| ·反应原料的预处理 | 第21页 |
| ·分析测试方法 | 第21-29页 |
| ·对产物的检测分析 | 第21-27页 |
| ·对反应前后触体以及催化剂的分析 | 第27-29页 |
| 第3章 催化剂对反应的影响及催化机理探讨 | 第29-44页 |
| ·前言 | 第29页 |
| ·催化剂的制备 | 第29-33页 |
| ·纳米氧化铜的制备 | 第29-30页 |
| ·纳米氢氧化铜的制备 | 第30-31页 |
| ·氧化亚铜的制备 | 第31-33页 |
| ·反应触体的制备 | 第33页 |
| ·催化剂对反应的影响 | 第33-36页 |
| ·铜粉催化剂的评价 | 第33-34页 |
| ·氢氧化铜催化剂的评价 | 第34-35页 |
| ·氧化铜催化剂的评价 | 第35页 |
| ·氧化亚铜催化剂的评价 | 第35-36页 |
| ·氯化亚铜催化剂的评价 | 第36页 |
| ·催化剂的表征与分析 | 第36-40页 |
| ·铜粉 | 第36-37页 |
| ·氢氧化铜 | 第37-38页 |
| ·纳米氧化铜 | 第38页 |
| ·氧化亚铜 | 第38-39页 |
| ·氯化亚铜 | 第39-40页 |
| ·催化剂机理的探讨 | 第40-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第4章 氯化亚铜催化合成三乙氧基硅烷 | 第44-54页 |
| ·前言 | 第44页 |
| ·合成方法 | 第44页 |
| ·合成的影响因素 | 第44-52页 |
| ·催化剂用量的影响 | 第45-46页 |
| ·反应温度的影响 | 第46-48页 |
| ·硅粉粒度的影响 | 第48-49页 |
| ·乙醇加料速度的影响 | 第49-50页 |
| ·预处理的影响 | 第50-52页 |
| ·产品的分离纯化 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-58页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第58-60页 |
| 致谢 | 第60页 |
