电负性与半导体材料带隙研究
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
引言 | 第9-10页 |
1 文献综述 | 第10-28页 |
·半导体材料简介 | 第10-15页 |
·半导体的基本概念 | 第10页 |
·半导体材料的分类 | 第10-12页 |
·半导体材料的性质 | 第12-15页 |
·电负性的研究进展 | 第15-23页 |
·原子电负性标度 | 第15-18页 |
·电负性概念的拓展 | 第18-20页 |
·电负性与材料设计 | 第20-23页 |
·带隙的理论研究 | 第23-27页 |
·离子模型 | 第24-25页 |
·经验方法 | 第25-27页 |
·本文的选题思想、研究内容及意义 | 第27-28页 |
·选题思想 | 第27页 |
·研究内容及其意义 | 第27-28页 |
2 电负性-带隙理论模型 | 第28-39页 |
·引言 | 第28-29页 |
·模型的建立 | 第29-32页 |
·A~NB~(8-N)型晶体 | 第29-32页 |
·ABC_2型三元黄铜矿晶体 | 第32页 |
·结果与讨论 | 第32-38页 |
·本章小结 | 第38-39页 |
3 掺杂合金半导体带隙的计算 | 第39-45页 |
·引言 | 第39页 |
·计算方法 | 第39-40页 |
·结果与讨论 | 第40-44页 |
·掺杂过程无结构变化的合金的带隙计算 | 第40页 |
·掺杂过程有结构变化的合金的带隙计算 | 第40-44页 |
·本章小结 | 第44-45页 |
结论 | 第45-46页 |
参考文献 | 第46-51页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第51-52页 |
致谢 | 第52-53页 |