| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-17页 |
| ·概述 | 第10-11页 |
| ·金属间化合物理论及实验研究进展 | 第11-14页 |
| ·键合与结构稳定性 | 第11-12页 |
| ·晶体缺陷 | 第12-13页 |
| ·实验研究方面 | 第13-14页 |
| ·Ni-Al二元系合金 | 第14-16页 |
| ·本文的研究目的及方法 | 第16-17页 |
| 第二章 正电子湮没技术与实验方法 | 第17-29页 |
| ·概述 | 第17页 |
| ·空位型缺陷对正电子的捕获 | 第17-18页 |
| ·正电子寿命谱仪 | 第18-19页 |
| ·正电子两态捕获模型 | 第19-22页 |
| ·正电子寿命谱分析 | 第22-23页 |
| ·正电子湮没率与电子密度 | 第23-25页 |
| ·均匀电子气系统中的正电子湮没率 | 第23-25页 |
| ·非均匀电子系统中的正电子湮没率 | 第25页 |
| ·正电子湮没辐射Doppler展宽 | 第25-29页 |
| 第三章 不同化学成分Ni_3Al合金中的微观缺陷及其电性能研究 | 第29-44页 |
| ·引言 | 第29-31页 |
| ·实验方法 | 第31-42页 |
| ·样品制备 | 第31-32页 |
| ·正电子湮没Doppler展宽谱实验 | 第32-35页 |
| ·正电子湮没寿命谱实验 | 第35-39页 |
| ·退火温度对合金缺陷密度的影响 | 第39-42页 |
| ·本章小结 | 第42-44页 |
| 第四章 不同化学成分NiAl合金中的微观缺陷及其电性能研究 | 第44-56页 |
| ·引言 | 第44-47页 |
| ·实验方法 | 第47-54页 |
| ·样品制备 | 第47页 |
| ·正电子湮没Doppler展宽谱实验 | 第47-50页 |
| ·正电子湮没寿命谱实验 | 第50-53页 |
| ·退火温度对合金缺陷密度的影响 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-56页 |
| 第五章 总结 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 硕士期间完成论文情况 | 第62页 |