| 中文摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-12页 |
| 1 引言 | 第12-30页 |
| ·选题背景及研究意义 | 第12-14页 |
| ·太阳能选择性吸收涂层研究现状 | 第14-26页 |
| ·太阳能选择性吸收涂层的基本概念 | 第14-16页 |
| ·选择性吸收涂层的基本原理 | 第16-18页 |
| ·太阳能选择性吸收涂层的制备方法 | 第18-23页 |
| ·反应磁控溅射过程中化合物膜的沉积 | 第23-26页 |
| ·论文的研究内容、目标及主要贡献 | 第26-30页 |
| ·研究内容与目标 | 第26-27页 |
| ·论文章节安排 | 第27-28页 |
| ·论文主要贡献和创新点 | 第28-30页 |
| 2 实验装置和实验方法 | 第30-44页 |
| ·薄膜制备方法 | 第30-35页 |
| ·中频反应磁控溅射设备 | 第30-34页 |
| ·基体材料及预处理 | 第34-35页 |
| ·薄膜沉积工艺 | 第35页 |
| ·薄膜分析检测方法 | 第35-44页 |
| ·膜层厚度测试 | 第35-36页 |
| ·缺陷的定量分析 | 第36-37页 |
| ·结合强度测试 | 第37页 |
| ·扫描电子显微分析 | 第37-38页 |
| ·X 射线衍射分析 | 第38-39页 |
| ·X 射线光电子能谱分析 | 第39-40页 |
| ·俄歇电子能谱分析 | 第40-41页 |
| ·薄膜的反射率测量方法 | 第41-44页 |
| 3 TiN 薄膜的中频反应磁控溅射技术研究 | 第44-60页 |
| ·引论 | 第44页 |
| ·TiN 薄膜的中频磁控沉积工艺 | 第44页 |
| ·沉积工艺对TiN 薄膜沉积速率的影响 | 第44-48页 |
| ·沉积工艺对TiN 薄膜宏观形貌的影响 | 第48-50页 |
| ·沉积工艺对TiN 薄膜微观表面形貌的影响 | 第50-56页 |
| ·沉积工艺对TiN 薄膜表面缺陷数的影响 | 第50-52页 |
| ·沉积工艺对TiN 薄膜表面缺陷面积百分比的影响 | 第52-56页 |
| ·沉积工艺对 TiN 薄膜结合力的影响 | 第56-60页 |
| 4 AlN 薄膜的中频反应磁控溅射技术研究 | 第60-82页 |
| ·引论 | 第60页 |
| ·氮气流量的影响 | 第60-68页 |
| ·氮气流量对铝靶放电特性的影响 | 第60-62页 |
| ·氮气流量对薄膜表面形貌的影响 | 第62-64页 |
| ·氮气流量对薄膜成分和化学结合状态的影响 | 第64-67页 |
| ·氮气流量对薄膜相结构的影响 | 第67-68页 |
| ·氩气流量的影响 | 第68-75页 |
| ·氩气流量对铝靶放电特性的影响 | 第68-69页 |
| ·氩气流量对薄膜表面形貌的影响 | 第69-70页 |
| ·氩气流量对薄膜成分和化学结合状态的影响 | 第70-73页 |
| ·氩气流量对薄膜相结构的影响 | 第73-75页 |
| ·靶电流的影响 | 第75-79页 |
| ·靶电流对铝靶放电特性的影响 | 第75页 |
| ·靶电流对薄膜表面形貌的影响 | 第75-76页 |
| ·靶电流对薄膜成分和化学结合状态的影响 | 第76-79页 |
| ·靶电流对薄膜相结构的影响 | 第79页 |
| ·靶面磁场对铝靶放电特性的影响 | 第79-82页 |
| 5 Ni-AlN 复合薄膜的中频反应磁控溅射技术研究 | 第82-92页 |
| ·引论 | 第82页 |
| ·铝靶的放电特性 | 第82-84页 |
| ·镍靶的放电特性 | 第84-85页 |
| ·Ni-AlN 复合薄膜的显微结构 | 第85-92页 |
| ·Ni-AlN 复合薄膜的表面形貌 | 第85-86页 |
| ·Ni-AlN 复合薄膜的成分和化学结合状态 | 第86-89页 |
| ·Ni-AlN 复合薄膜的相结构 | 第89-92页 |
| 6 梯度Ni-AlN 选择性吸收涂层研究 | 第92-100页 |
| ·引论 | 第92页 |
| ·Ni-AlN 复合材料吸收亚层层数对涂层反射率的影响 | 第92-93页 |
| ·Ni-AlN 选择性吸收涂层浓度梯度对涂层反射率的影响 | 第93-98页 |
| ·梯度Al-AlN 选择性吸收涂层 | 第98-100页 |
| 7 成膜机理分析 | 第100-110页 |
| ·引论 | 第100页 |
| ·薄膜的成膜过程 | 第100-103页 |
| ·TiN 薄膜和AlN 薄膜的成膜过程分析 | 第103-107页 |
| ·Ni-AlN 复合薄膜的成膜过程分析 | 第107-110页 |
| 结论 | 第110-112页 |
| 研究结论 | 第110-111页 |
| 对下一步工作的建议 | 第111-112页 |
| 致谢 | 第112-114页 |
| 参考文献 | 第114-124页 |
| 附录 | 第124页 |
| 论文发表情况 | 第124页 |
| 个人简历 | 第124页 |
