纳米金刚石薄膜次级电子发射特性研究

摘要	第1-4页
Abstract	第4-6页
第一章 绪论	第6-10页
·纳米金刚石薄膜SEE的研究价值	第6-8页
·研究现状	第8页
·论文的研究内容	第8-10页
第二章 次级电子发射的基本理论	第10-23页
·固体能带模型	第10-11页
·负电子亲和势、逸出深度	第11-13页
·次级电子发射理论	第13-20页
·次级电子发射的物理过程	第14-15页
·定量计算	第15-19页
·影响次级发射系数的因素	第19-20页
·透射型次级发射系数的理论计算	第20-23页
第三章 薄膜的制备与表面分析	第23-43页
·金刚石薄膜的结构和优异特性	第23-24页
·微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)装置	第24-25页
·纳米金刚石薄膜制备过程	第25-27页
·薄膜分析方法	第27-31页
·X射线衍射方法(XRD)	第27-28页
·扫描电子显微镜(SEM)	第28-29页
·原子力显微镜(AFM)	第29-30页
·Raman光谱	第30-31页
·薄膜分析结果	第31-43页
第四章 次级电子发射特性实验	第43-54页
·次级电子发射的实验方法	第43-46页
·实验装置与测定原理	第46-49页
·实验步骤	第49页
·实验结果	第49-52页
·实验讨论与结论	第52-54页
致谢	第54-55页
参考文献	第55-56页