中文摘要 | 第1-4页 |
ABSTRACT | 第4-6页 |
目录 | 第6-8页 |
第一章 绪论 | 第8-13页 |
·研究背景 | 第8-11页 |
·国内外研究状况 | 第11-12页 |
·本文内容与结构 | 第12-13页 |
第二章 理论基础 | 第13-25页 |
·偏振光 | 第13-18页 |
·偏振光与Stokes矢量 | 第13-15页 |
·Mueller矩阵及其物理意义 | 第15-17页 |
·Mueller矩阵的特征值和特征矢量 | 第17-18页 |
·STOKES矢量、MUELLER矩阵测量方法的理论推导 | 第18-21页 |
·Stokes矢量的实验测量原理 | 第18页 |
·Mueller矩阵的实验测量原理 | 第18-21页 |
·球形粒子散射(MIE散射)理论 | 第21-25页 |
第三章 散射介质偏振特性与葡萄糖含量关系的试验研究 | 第25-37页 |
·光路的设计 | 第25-28页 |
·光学元器件的选择 | 第26-27页 |
·光路的调制与校准 | 第27-28页 |
·Mueller矩阵的实验测量 | 第28页 |
·葡萄糖对MUELLER矩阵二维分布图的影响 | 第28-34页 |
·Mueller矩阵二维分布图随葡萄糖含量的变化规律 | 第28-32页 |
·不同入射角时Mueller矩阵二维分布 | 第32-34页 |
·散射介质后向散射解偏度的变化 | 第34-35页 |
·相同散射介质浓度不同葡萄糖含量解偏度的变化 | 第34-35页 |
·不同葡萄糖含量的散射介质后向散射光解偏度随探测角的变化 | 第35页 |
·本章总结 | 第35-37页 |
第四章 介质中掩埋物对后向散射MUELLER矩阵的影响 | 第37-52页 |
·偏振成像识别技术 | 第37-38页 |
·实验装置 | 第38页 |
·掩埋物体对后向散射光MUELLER矩阵影响 | 第38-46页 |
·掩埋物体在不同深度对后向散射Mueller矩阵的影响 | 第38-42页 |
·Mueller矩阵的二维分布与掩埋物大小的关系 | 第42-44页 |
·Mueller矩阵的二维分布图与掩埋物形状的关系 | 第44-46页 |
·掩埋物体对散射光解偏度的影响 | 第46-48页 |
·隐藏物体在不同深度对散射光解偏度的影响 | 第46-47页 |
·不同直径的掩埋物对散射光解偏度的影响 | 第47-48页 |
·不同形状的掩埋物对散射光解偏度的影响 | 第48页 |
·试验测量的误差分析 | 第48-50页 |
·系统中光学元器件的固有缺陷 | 第49-50页 |
·各偏振器件的方位角机械误差 | 第50页 |
·CCD相机的噪声分析 | 第50页 |
·本章总结 | 第50-52页 |
第五章 MUELLER矩阵本征值、本征向量的初步探讨 | 第52-60页 |
·几种简单光学器件MUELLER矩阵的本征值、本征向量 | 第52-57页 |
·线偏振器Mueller矩阵的本征值、本征向量 | 第52-54页 |
·1/4波片的Mueller矩阵本征值、本征向量 | 第54-57页 |
·脂肪乳剂后向散射MUELLER矩阵的本征值、本征向量 | 第57-59页 |
·本章总结 | 第59-60页 |
第六章 结论与展望 | 第60-61页 |
致谢 | 第61-62页 |
参考文献 | 第62-65页 |