| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-20页 |
| ·透明导电薄膜概述 | 第8-11页 |
| ·透明导电薄膜的简介 | 第8-10页 |
| ·透明导电薄膜的应用 | 第10-11页 |
| ·透明导电薄膜的研究现状及发展方向 | 第11页 |
| ·SrTiO_3的晶体结构、特性和应用 | 第11-13页 |
| ·SrTiO_3的晶体结构 | 第11-12页 |
| ·SrTiO_3材料的特性 | 第12页 |
| ·SrTiO_3材料的应用 | 第12-13页 |
| ·SrTiO_3薄膜的制备方法 | 第13-14页 |
| ·物理气相沉积法(PVD) | 第13页 |
| ·化学气相沉积法(CVD) | 第13-14页 |
| ·溶胶-凝胶法(Sol-Gel) | 第14页 |
| ·SrTiO_3薄膜的研究意义及现状 | 第14-16页 |
| ·SrTiO_3透明导电薄膜的研究意义 | 第14-15页 |
| ·SrTiO_3透明导电薄膜的国外研究现状 | 第15页 |
| ·SrTiO_3透明导电薄膜的国内研究现状 | 第15-16页 |
| ·论文的选题及主要研究内容 | 第16-20页 |
| ·选题的意义 | 第16-17页 |
| ·主要研究内容 | 第17-20页 |
| 第二章 实验原理、设计及表征 | 第20-30页 |
| ·实验原理 | 第20-21页 |
| ·制备SrTiO3薄膜的机理 | 第20-21页 |
| ·SrTiO_3的掺杂机理 | 第21页 |
| ·实验设计 | 第21-24页 |
| ·体系选择 | 第21-22页 |
| ·影响SrTiO_3薄膜质量及性能的主要因素 | 第22-24页 |
| ·工艺参数的确定与薄膜结构、性能的表征 | 第24-28页 |
| ·热重及热差分析 | 第24页 |
| ·薄膜成分的表征 | 第24-25页 |
| ·薄膜形貌的表征 | 第25-26页 |
| ·薄膜厚度的表征 | 第26页 |
| ·薄膜光学特性的表征 | 第26-27页 |
| ·薄膜电学特性的表征 | 第27-28页 |
| ·本章小结 | 第28-30页 |
| 第三章 溶胶-凝胶法制备SrTiO_3 薄膜 | 第30-54页 |
| ·SrTiO_3 薄膜的制备流程 | 第30-33页 |
| ·实验原料及设备 | 第30-31页 |
| ·衬底选取及清洗 | 第31-32页 |
| ·实验流程 | 第32-33页 |
| ·SrTiO_3 薄膜的体系选择 | 第33-38页 |
| ·水-冰醋酸体系 | 第33-34页 |
| ·乙二醇甲醚-冰醋酸体系 | 第34-36页 |
| ·结果表征与分析 | 第36-38页 |
| ·各个影响因素SrTiO_3薄膜的实验结果表征及分析 | 第38-52页 |
| ·螯合剂-乙酰丙酮 | 第39页 |
| ·表面活性剂-聚乙烯吡咯烷酮 | 第39-45页 |
| ·陈化温度和时间 | 第45-46页 |
| ·预处理温度 | 第46-47页 |
| ·火温度 | 第47-52页 |
| ·本章小结 | 第52-54页 |
| 第四章 掺杂对 SrTiO_3薄膜光电性能的影响 | 第54-70页 |
| ·La_xSr_(1-x)TiO_3薄膜的制备 | 第54-56页 |
| ·掺杂原料及掺杂实验设计 | 第54-55页 |
| ·La_xSr_(1-x)TiO_3薄膜的工艺流程 | 第55-56页 |
| ·La_xSr_(1-x)TiO_3薄膜的结构特性的表征及分析 | 第56-67页 |
| ·不同掺杂浓度的La_xSr_(1-x)TiO_3薄膜掠入射X射线衍射分析 | 第56-57页 |
| ·不同掺杂浓度的La_xSr_(1-x)TiO_3薄膜SEM、EDS和AFM分析 | 第57-60页 |
| ·掺杂浓度对La_xSr_(1-x)TiO_3薄膜光学性能的影响 | 第60-65页 |
| ·掺杂浓度对La_xSr_(1-x)TiO_3薄膜电学性能的影响 | 第65-67页 |
| ·La_xSr_(1-x)TiO_3透明导电薄膜的性能指数表征 | 第67-68页 |
| ·本章小结 | 第68-70页 |
| 第五章 全文工作总结与展望 | 第70-72页 |
| ·工作总结 | 第70-71页 |
| ·存在的问题及下一步工作打算 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-78页 |
| 攻读硕士学位期间取得的学术成果 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79页 |
